ペルオキソ修飾チタニア光触媒へのCuイオン担持による新規漂白プロセスの開拓

• Project/Area Number: 24K12940
• Research Category: Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
• Allocation Type: Multi-year Fund
• Section: 一般
• Review Section: Basic Section 57030:Conservative dentistry-related
• Research Institution: Osaka University
• Principal Investigator: 西田 尚敬 大阪大学, 産業科学研究所, 特任准教授 (70448116)
• Co-Investigator(Kenkyū-buntansha): 保尾 謙三 大阪歯科大学, 歯学部, 講師 (10632044) ; 関野 徹 大阪大学, 産業科学研究所, 教授 (20226658) ; 本田 義知 大阪歯科大学, 歯学部, 教授 (90547259) ; 山本 一世 大阪歯科大学, 歯学部, 教授 (50288776)
• Project Period (FY): 2024-04-01 – 2027-03-31
• Project Status: Granted (Fiscal Year 2024)
• Budget Amount: ¥4,680,000 (Direct Cost: ¥3,600,000、Indirect Cost: ¥1,080,000); Fiscal Year 2026: ¥1,950,000 (Direct Cost: ¥1,500,000、Indirect Cost: ¥450,000); Fiscal Year 2025: ¥1,300,000 (Direct Cost: ¥1,000,000、Indirect Cost: ¥300,000); Fiscal Year 2024: ¥1,430,000 (Direct Cost: ¥1,100,000、Indirect Cost: ¥330,000)
• Keywords: 光触媒 / 可視光応答化 / 酸化チタン / ヒドロキシラジカル

Outline of Research at the Start

本研究では、高濃度過酸化水素水を使用しない新規漂白プロセスの創製を目的とし、ペルオキソチタン錯体イオンを前駆体としたボトムアッププロセスによりチタン酸層状化合物表面にあらかじめ過酸化水素と同じ電子配置を持つペルオキソ構造を形成し、Cu2＋イオンによるフェントン型反応を利用したペルオキソ基の分解によるヒドロキシラジカル生成量の向上を図る。同時にCu2+への界面電荷移動による再結合抑制による可視光高感度化を同時に達成するために、Cu2+析出ナノ粒子の構造・機能設計をおこない、触媒活性メカニズムを解明する。そして抜去歯を用いた漂白効果を検討し新規漂白プロセスの開拓及び構築をおこなう。