Construction of a valuable metal recycling system from metal waste generated in semiconductor manufacturing processes.

Research Project

Project/Area Number	24K15364
Research Category	Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
Allocation Type	Multi-year Fund
Section	一般
Review Section	Basic Section 64030:Environmental materials and recycle technology-related
Research Institution	Nara National College of Technology
Principal Investigator	中村秀美奈良工業高等専門学校, 物質化学工学科, 教授 (70198232)
Project Period (FY)	2024-04-01 – 2027-03-31
Project Status	Granted (Fiscal Year 2024)
Budget Amount *help	¥4,550,000 (Direct Cost: ¥3,500,000、Indirect Cost: ¥1,050,000) Fiscal Year 2026: ¥780,000 (Direct Cost: ¥600,000、Indirect Cost: ¥180,000) Fiscal Year 2025: ¥1,430,000 (Direct Cost: ¥1,100,000、Indirect Cost: ¥330,000) Fiscal Year 2024: ¥2,340,000 (Direct Cost: ¥1,800,000、Indirect Cost: ¥540,000)
Keywords	吸着 / 金属リサイクル / 半導体めっき / 廃水処理 / ゼロ・エミッション
Outline of Research at the Start	本研究では半導体製造プロセスで生じる廃棄めっきメディアや排水から、①めっきメディアの表層を剥離し、酸溶解で得られたスラッジ溶液から、イオン交換/キレート樹脂を用いてNiとSnを分離・回収する吸着技術と電解処理による金属精錬回収技術を組み合わせて、金属Zn、Niを回収、②吸着技術を利用した排水からのSn4+の分離回収におけるイオン交換／キレート樹脂の評価、③Sn4+を捕捉しやすい官能基の探索・吸着メカニズム解明と新規吸着材の開発、④Sn4+の還元処理法について検討し、金属回収率90%、純度99%以上のSn、Niを回収する金属リサイクルシステムの社会実装を目指す。