高速C60イオンビームによる有機分子薄膜のスパッタリング過程の解明

Research Project

Project/Area Number	24K15594
Research Category	Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
Allocation Type	Multi-year Fund
Section	一般
Review Section	Basic Section 80040:Quantum beam science-related
Research Institution	Kyoto University
Principal Investigator	中嶋薫京都大学, 工学研究科, 准教授 (80293885)
Project Period (FY)	2024-04-01 – 2027-03-31
Project Status	Granted (Fiscal Year 2024)
Budget Amount *help	¥4,550,000 (Direct Cost: ¥3,500,000、Indirect Cost: ¥1,050,000) Fiscal Year 2026: ¥910,000 (Direct Cost: ¥700,000、Indirect Cost: ¥210,000) Fiscal Year 2025: ¥1,040,000 (Direct Cost: ¥800,000、Indirect Cost: ¥240,000) Fiscal Year 2024: ¥2,600,000 (Direct Cost: ¥2,000,000、Indirect Cost: ¥600,000)
Keywords	スパッタリング / クラスターイオン / 有機分子薄膜
Outline of Research at the Start	(1)アミノ酸・ペプチド、その他の有機分子の薄膜試料に数10 keV～数MeV程度のエネルギーのC60イオンを照射し、スパッタ収率の測定を行う。スパッタ収率と照射イオンのエネルギー、入射角との関係を求める。(2)上記の有機分子の薄膜試料のイオン照射による表面形状の発展をAFMで観察し、表面形状の発展の様子とスパッタ収率と照射イオンのエネルギー、入射角との関係を調べる。(3)高速C60イオン照射による有機分子薄膜のスパッタリング機構を解明し、照射条件などからスパッタ収率を計算することが可能な経験式の提案を行う。