軟X線高強度レーザー電場中での共有結合性希ガス分子の形成

Research Project

Project/Area Number	24K15609
Research Category	Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
Allocation Type	Multi-year Fund
Section	一般
Review Section	Basic Section 80040:Quantum beam science-related
Research Institution	Japan Synchrotron Radiation Research Institute
Principal Investigator	大和田成起公益財団法人高輝度光科学研究センター, XFEL利用研究推進室, 主幹研究員 (90725962)
Project Period (FY)	2024-04-01 – 2029-03-31
Project Status	Granted (Fiscal Year 2024)
Budget Amount *help	¥4,680,000 (Direct Cost: ¥3,600,000、Indirect Cost: ¥1,080,000) Fiscal Year 2028: ¥650,000 (Direct Cost: ¥500,000、Indirect Cost: ¥150,000) Fiscal Year 2027: ¥260,000 (Direct Cost: ¥200,000、Indirect Cost: ¥60,000) Fiscal Year 2026: ¥1,430,000 (Direct Cost: ¥1,100,000、Indirect Cost: ¥330,000) Fiscal Year 2025: ¥1,820,000 (Direct Cost: ¥1,400,000、Indirect Cost: ¥420,000) Fiscal Year 2024: ¥520,000 (Direct Cost: ¥400,000、Indirect Cost: ¥120,000)
Keywords	強光子場科学 / 軟X線自由電子レーザー
Outline of Research at the Start	束縛電子の運動がレーザー電場の振動に追随できなくなる軟X線高強度レーザー電場下において、本来であれば共有結合を形成することのないヘリウムのような閉殻原子でも共有結合を形成し得ることが、これまで理論的に示唆されていた。本研究では、理化学研究所のX線自由電子レーザー施設SACLA BL1のナノ集光措置を用いることで高強度軟X線レーザー電場を形成し、希ガス二量体のvan der Waals力による微弱な結合が、共有結合性を帯びた強い結合へと変化することを実験的に示す。