超短パルスレーザ改質の空間分布制御による低損失光導波路の高能率書き込み

Research Project

Project/Area Number	24K17527
Research Category	Grant-in-Aid for Early-Career Scientists
Allocation Type	Multi-year Fund
Review Section	Basic Section 26050:Material processing and microstructure control-related
Research Institution	The University of Tokyo
Principal Investigator	吉崎れいな東京大学, 大学院工学系研究科(工学部), 助教 (80967852)
Project Period (FY)	2024-04-01 – 2026-03-31
Project Status	Granted (Fiscal Year 2024)
Budget Amount *help	¥4,810,000 (Direct Cost: ¥3,700,000、Indirect Cost: ¥1,110,000) Fiscal Year 2025: ¥910,000 (Direct Cost: ¥700,000、Indirect Cost: ¥210,000) Fiscal Year 2024: ¥3,900,000 (Direct Cost: ¥3,000,000、Indirect Cost: ¥900,000)
Keywords	超短パルスレーザ / 光導波路 / 内部改質 / 非線形光学 / 空間光変調器
Outline of Research at the Start	本研究は超短パルスレーザ照射による透明材料への改質書き込みの空間分布制御を実現し，低損失な光導波路の高能率書き込みを達成することを目的とする．超短パルスレーザによる透明材料への改質書き込みは光集積回路制作に必須の技術である．ただし改質はレーザの非線形伝搬・吸収の末生じるため分布の能動制御が難しく，低損失光導波路の高能率書き込みは実現していない．本研究は高速観察手法を駆使し，非線形光伝搬と吸収の結果生じる改質分布をレーザの空間位相変調で制御する方法を提案し，低損失光導波路を実現する屈折率分布のシングルスキャン書き込みを目指す．成果は光集積回路の省電力化と加工コスト低減に貢献すると期待される．