Research Project
Grant-in-Aid for Early-Career Scientists
本研究は、アニオン性・カチオン性官能基修飾グラフェンを貼り合わせて世界最薄バイポーラ膜を開発し、プロトンの供給・消費の増大による電気化学反応の高速化とギ酸のクロスオーバー抑制を実現する。原子層厚みのグラフェンにナノサイズの穴を開け、官能基修飾することでギ酸分子に対する立体障害や電荷反発効果によるクロスオーバー抑制を試みる。そして、バイポーラ膜界面での強い電場強度領域で水の解離・会合性能を向上させつつも、絶縁破壊を起こさないバイポーラ膜構造を明らかにする。
