口蓋裂発症の予防に向けたBMPシグナルの下流分子の探索

• Project/Area Number: 24K20080
• Research Category: Grant-in-Aid for Early-Career Scientists
• Allocation Type: Multi-year Fund
• Review Section: Basic Section 57070:Developmental dentistry-related
• Research Institution: Osaka University
• Principal Investigator: 横山 美佳 大阪大学, 大学院歯学研究科, 招へい教員 (60967701)
• Project Period (FY): 2024-04-01 – 2027-03-31
• Project Status: Granted (Fiscal Year 2024)
• Budget Amount: ¥4,680,000 (Direct Cost: ¥3,600,000、Indirect Cost: ¥1,080,000); Fiscal Year 2026: ¥1,560,000 (Direct Cost: ¥1,200,000、Indirect Cost: ¥360,000); Fiscal Year 2025: ¥1,040,000 (Direct Cost: ¥800,000、Indirect Cost: ¥240,000); Fiscal Year 2024: ¥2,080,000 (Direct Cost: ¥1,600,000、Indirect Cost: ¥480,000)
• Keywords: 口蓋裂

Outline of Research at the Start

BMPシグナルは口唇口蓋裂に関わる主要なシグナル経路の一つであるが、口蓋形成においてBMPシグナルの下流で働くエフェクター分子は長年不明であった。そこで本研究では Chst11遺伝子のノックアウトマウスとBMPr1aノックアウトマウスのGenetic-interaction実験による実験遺伝学的手法にて、Chst11がBMPシグナル分子のエフェクター分子として口蓋形成 において機能しているかを明らかにする。さらに、BMPシグナルによりChst11遺伝子の発現 が口蓋突起においてどのように制御されているかを明らかにする。