Research Project
Grant-in-Aid for Research Activity Start-up
数マイクロm程度に加工されたマイクロLEDデバイスは、VR/ARディスプレイ向けの次世代ディスプレイ素子として注目されている。このマイクロLED素子は、低電流密度動作・高精細・高輝度な赤青緑の光の三原色が要求されている。とりわけ、赤色マイクロLEDの発光強度の向上が必要とされており、マイクロLEDへの加工過程で生じる加工界面欠陥によって内部量子効率の低下が生じるため、低電流密度における発光効率が著しく低下する問題がある。そこで本研究では、赤色LEDで用いるAlGaInPのトップダウン加工時に生ずる加工界面欠陥に着目し、欠陥生成抑制による赤色マイクロLEDの低電流密度の高輝度化を試みる。