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(La,Sr)VO3を用いた強相関/バンド絶縁体界面のキャリア輸送メカニズムの解明

Research Project

Project/Area Number 24K22957
Research Category

Grant-in-Aid for Research Activity Start-up

Allocation TypeMulti-year Fund
Review Section 0302:Electrical and electronic engineering and related fields
Research InstitutionUniversity of Hyogo

Principal Investigator

藤谷 海斗  兵庫県立大学, 工学研究科, 学振特別研究員(DC) (00915069)

Project Period (FY) 2024-07-31 – 2026-03-31
Project Status Granted (Fiscal Year 2024)
Budget Amount *help
¥2,860,000 (Direct Cost: ¥2,200,000、Indirect Cost: ¥660,000)
Fiscal Year 2025: ¥1,430,000 (Direct Cost: ¥1,100,000、Indirect Cost: ¥330,000)
Fiscal Year 2024: ¥1,430,000 (Direct Cost: ¥1,100,000、Indirect Cost: ¥330,000)
Keywords強相関電子系 / ヘテロ接合 / 遷移金属酸化物 / 放射光 / シリコン
Outline of Research at the Start

半導体デバイスの高機能・高性能化において、強相関電子材料(SCES電荷、スピン、軌道の自由度が複雑に相互作用する材料)とSiデバイスの融合は有力なアプローチの一つである。SCESの電子機能を活用することで、メモリビットの多次元化、省電力化等の実現が期待できる。しかし、その接合界面の電子状態や電子の移動メカニズムは殆ど調査されてなかった。本研究ではSCES材料の(La,Sr)VO3をSiに直接接合し、電気特性評価からこれらを明らかにする。同時に、電圧下放射光分析システムを開発し電子の移動に伴う状態変化を解明することで、SCESを用いた多電子機能Siデバイス創成という新分野開発の足がかりを創る。

URL: 

Published: 2024-08-01   Modified: 2024-09-13  

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