Research Project
Grant-in-Aid for JSPS Fellows
ムーアの法則に伴う指数関数的な微細化要求により,半導体製造装置をはじめとした超精密位置決めシステムの位置決め精度要求は年々厳しくなっている。そうした系に対してロバストな学習則で高速で高精度な位置決めを実現する反復学習制御(ILC)という手法に注目する。本研究では,ILCの課題である汎化性能を向上させた上で実用上の限界性能を更に向上させる学習手法を提案し,実際にこれを半導体製造装置へ適用しその性能を検証することを試みる。