| Project/Area Number |
25H00620
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| Research Category |
Grant-in-Aid for Scientific Research (A)
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| Allocation Type | Single-year Grants |
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| Section | 一般 |
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| Review Section |
Medium-sized Section 14:Plasma science and related fields
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| Research Institution | Tokyo University of Science |
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Principal Investigator |
長嶋 泰之 東京理科大学, 理学部第二部物理学科, 教授 (60198322)
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| Co-Investigator(Kenkyū-buntansha) |
永田 祐吾 東京理科大学, 理学部第二部物理学科, 准教授 (30574115)
佐田 雄飛 東京理科大学, 理学部第二部物理学科, 助教 (50981156)
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| Project Period (FY) |
2025-04-01 – 2028-03-31
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| Project Status |
Granted (Fiscal Year 2025)
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| Budget Amount *help |
¥46,930,000 (Direct Cost: ¥36,100,000、Indirect Cost: ¥10,830,000)
Fiscal Year 2025: ¥21,060,000 (Direct Cost: ¥16,200,000、Indirect Cost: ¥4,860,000)
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| Keywords | ポジトロニウム / ポジトロニウムビーム / グラフェン / 陽電子 |
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| Outline of Research at the Start |
申請者は近年、ポジトロニウムにもうひとつの電子が結合したポジトロニウム負イオンを高効率で生成し、電場で加速した後にレーザー光で電子１個を光脱離させることによって、エネルギー可変ポジトロニウムビームを開発することに成功し、それを用いてポジトロニウムやポジトロニウム負イオンの基本的性質を調べるための様々な研究を行ってきた。本研究課題では、ポジトロニウムビームをグラフェングラフェン薄膜に入射してポジトロニウムとグラフェンの衝突現象について調べ、ポジトロニウムが物質に入射したときに引き起こされる最も基本的な現象について理解することを目指す。
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