| Project/Area Number |
25H00707
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| Research Category |
Grant-in-Aid for Scientific Research (A)
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| Allocation Type | Single-year Grants |
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| Section | 一般 |
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| Review Section |
Medium-sized Section 18:Mechanics of materials, production engineering, design engineering, and related fields
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| Research Institution | The University of Osaka |
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Principal Investigator |
有馬 健太 大阪大学, 大学院工学研究科, 教授 (10324807)
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| Project Period (FY) |
2025-04-01 – 2029-03-31
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| Project Status |
Granted (Fiscal Year 2025)
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| Budget Amount *help |
¥45,630,000 (Direct Cost: ¥35,100,000、Indirect Cost: ¥10,530,000)
Fiscal Year 2025: ¥8,710,000 (Direct Cost: ¥6,700,000、Indirect Cost: ¥2,010,000)
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| Keywords | Siナノ材料 / 電子構造 / ウェットプロセス / 光学特性 / 原子構造 |
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| Outline of Research at the Start |
原子層単位の厚さとnmスケールで制御された横幅を持つシリコン（Si）の原子層リボンは、次世代の電子・光学デバイスへの搭載が期待されるナノ材料である。複数の固液界面反応を巧みに操る、応募者独自の超精密加工プロセス（自律型ウェットナノ加工）を高度化し、Si原子層リボンを創製する。そして、このプロセスの性能を原子レベルで計測評価すると共に、第一原理計算によりリボンが持つ特異な物性（バンド構造のリボン幅およびリボン厚さ依存性）を明らかにする。以上により、本材料のフォトニクス応用に向けた基盤を整備する。
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