Design of hydrophobic semiconductor resins and organic/water systems for photocatalytic hydrogen peroxide production

• Project/Area Number: 25K01574
• Research Category: Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
• Allocation Type: Multi-year Fund
• Section: 一般
• Review Section: Basic Section 27020:Chemical reaction and process system engineering-related
• Research Institution: The University of Osaka
• Principal Investigator: 白石 康浩 大阪大学, 大学院基礎工学研究科, 准教授 (70343259)
• Co-Investigator(Kenkyū-buntansha): 平井 隆之 大阪大学, 大学院基礎工学研究科, 教授 (80208800)
• Project Period (FY): 2025-04-01 – 2028-03-31
• Project Status: Granted (Fiscal Year 2025)
• Budget Amount: ¥16,900,000 (Direct Cost: ¥13,000,000、Indirect Cost: ¥3,900,000); Fiscal Year 2027: ¥3,770,000 (Direct Cost: ¥2,900,000、Indirect Cost: ¥870,000); Fiscal Year 2026: ¥3,770,000 (Direct Cost: ¥2,900,000、Indirect Cost: ¥870,000); Fiscal Year 2025: ¥9,360,000 (Direct Cost: ¥7,200,000、Indirect Cost: ¥2,160,000)
• Keywords: 光触媒 / 過酸化水素 / 人工光合成 / 樹脂 / 半導体

Outline of Research at the Start

RF半導体樹脂の改良により、水と空気から簡便かつ効率よく高濃度H2O2溶液を製造する光触媒系の開発に取り組む。非金属を用いるプロセシングにより、高活性疎水性RF樹脂を合成する。脂肪族炭化水素／水からなる二相系へ樹脂を添加して太陽光を照射し、樹脂を炭化水素相に保持しながら高濃度H2O2 水溶液を簡便に回収する技術へのアップグレードを図る。樹脂への機能集積、ならびに光反応操作の改良を通して、触媒分離操作の不要な高濃度H2O2水溶液の合成法を確立する。