SMCHD1による転写に抑制的に働くヒストン修飾の配置制御機構の解明

Research Project

Project/Area Number	25K02206
Research Category	Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
Allocation Type	Multi-year Fund
Section	一般
Review Section	Basic Section 43010:Molecular biology-related
Research Institution	The University of Osaka
Principal Investigator	小布施力史大阪大学, 大学院理学研究科, 教授 (00273855)
Project Period (FY)	2025-04-01 – 2028-03-31
Project Status	Granted (Fiscal Year 2025)
Budget Amount *help	¥18,850,000 (Direct Cost: ¥14,500,000、Indirect Cost: ¥4,350,000) Fiscal Year 2027: ¥6,370,000 (Direct Cost: ¥4,900,000、Indirect Cost: ¥1,470,000) Fiscal Year 2026: ¥6,240,000 (Direct Cost: ¥4,800,000、Indirect Cost: ¥1,440,000) Fiscal Year 2025: ¥6,240,000 (Direct Cost: ¥4,800,000、Indirect Cost: ¥1,440,000)
Keywords	ヘテロクロマチン / 不活性X染色体 / クロマチン高次構造 / ヒストン修飾
Outline of Research at the Start	遺伝子発現の抑制を司る抑制的なヒストン修飾が適切な時期に適切な場所に形成され、配置されることは、転写が抑制されているクロマチン領域特有の凝縮したクロマチン高次構造の構築と、転写の制御に寄与している。しかしながら、複数種類の抑制的なヒストン修飾の形成と配置がどのように行われているのか理解されていない。本課題は、ヒト細胞において、複数の抑制的なヒストン修飾に全体が覆われている不活性X染色体に着目し、凝縮したクロマチン構造構築と転写抑制の基盤となる抑制的なヒストン修飾の配置を司るメカニズムについて、そこに介在するSMCHD1と、我々が見出したHBiX1とHBiX2に着目し、解明する。