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極紫外線露光のための高速シミュレーション技術開発およびマスクデータベース構築

Research Project

Project/Area Number 25K03090
Research Category

Grant-in-Aid for Scientific Research (B)

Allocation TypeMulti-year Fund
Section一般
Review Section Basic Section 60040:Computer system-related
Basic Section 60090:High performance computing-related
Sections That Are Subject to Joint Review: Basic Section60040:Computer system-related , Basic Section60090:High performance computing-related
Research InstitutionInstitute of Science Tokyo

Principal Investigator

高橋 篤司  東京科学大学, 工学院, 教授 (30236260)

Co-Investigator(Kenkyū-buntansha) 小平 行秀  会津大学, コンピュータ理工学部, 上級准教授 (00549298)
下田 将之  東京科学大学, 工学院, 助教 (31017502)
Project Period (FY) 2025-04-01 – 2029-03-31
Project Status Granted (Fiscal Year 2025)
Budget Amount *help
¥18,850,000 (Direct Cost: ¥14,500,000、Indirect Cost: ¥4,350,000)
Fiscal Year 2028: ¥4,550,000 (Direct Cost: ¥3,500,000、Indirect Cost: ¥1,050,000)
Fiscal Year 2027: ¥5,460,000 (Direct Cost: ¥4,200,000、Indirect Cost: ¥1,260,000)
Fiscal Year 2026: ¥3,510,000 (Direct Cost: ¥2,700,000、Indirect Cost: ¥810,000)
Fiscal Year 2025: ¥5,330,000 (Direct Cost: ¥4,100,000、Indirect Cost: ¥1,230,000)
Keywords極紫外線 / マスク3D効果 / 光近接効果補正 / EUVマスクデータベース
Outline of Research at the Start

最先端の半導体製造には、極紫外線(Extreme Ultraviolet、EUV)を光源とする露光装置が用いられている。EUV露光では、反射型マスクに起因するマスク3D効果が問題となっている。マスク3D効果を補正(光近接効果補正、Optical Proximity Correction、OPC)するためには、高精度な露光シミュレーションが必要となる。本研究では、マスク3D効果を機械学習により高速に推定することで、露光シミュレーションの高速化を目指す。また、機械学習を利用したOPC技術の研究開発のためのEUVマスクデータベースを構築し公開する。

URL: 

Published: 2025-04-17   Modified: 2025-06-20  

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