ダイオード整流多電極アーク源による機能性ポーラス材料の高速生成プロセスの基盤確立

• Project/Area Number: 25K07271
• Research Category: Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
• Allocation Type: Multi-year Fund
• Section: 一般
• Review Section: Basic Section 14030:Applied plasma science-related
• Research Institution: Kyushu University
• Principal Investigator: 田中 学 九州大学, 工学研究院, 准教授 (10707152)
• Project Period (FY): 2025-04-01 – 2028-03-31
• Project Status: Granted (Fiscal Year 2025)
• Budget Amount: ¥4,680,000 (Direct Cost: ¥3,600,000、Indirect Cost: ¥1,080,000); Fiscal Year 2027: ¥1,170,000 (Direct Cost: ¥900,000、Indirect Cost: ¥270,000); Fiscal Year 2026: ¥1,430,000 (Direct Cost: ¥1,100,000、Indirect Cost: ¥330,000); Fiscal Year 2025: ¥2,080,000 (Direct Cost: ¥1,600,000、Indirect Cost: ¥480,000)
• Keywords: 熱プラズマ / ダイオード整流 / ポーラスシリコン / 大面積処理 / 変動現象

Outline of Research at the Start

最終的な目的は，熱プラズマと固相表面間の非平衡反応場における基礎現象の学理構築である．３要素に分けて目的を設定し，熱プラズマを用いた持続可能な環境調和型社会への貢献を目指す．
ダイオード整流した多電極交流放電を用いることで，スケールアップが容易で産業応用への展開が可能な，革新的な一次元熱プラズマ源の創成を第一の目的とする．また，革新的熱プラズマ源を真に理解し，使いこなすために，時間的・空間的に変動するプラズマ状態量を可視化する計測システムの開発を第二の目的とする．第三に，上記で創成した熱プラズマ源を用いた珪藻土の還元処理プロセスの確立，およびそれによるポーラスSiの大量製造手法の確立を目指す．