高強度パルス重イオンビームの連続運転とパルスイオン注入技術の制御精度向上への挑戦

• Project/Area Number: 25K07695
• Research Category: Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
• Allocation Type: Multi-year Fund
• Section: 一般
• Review Section: Basic Section 21010:Power engineering-related
• Research Institution: University of Toyama
• Principal Investigator: 伊藤 弘昭 富山大学, 学術研究部工学系, 教授 (70302445)
• Project Period (FY): 2025-04-01 – 2028-03-31
• Project Status: Granted (Fiscal Year 2025)
• Budget Amount: ¥4,680,000 (Direct Cost: ¥3,600,000、Indirect Cost: ¥1,080,000); Fiscal Year 2027: ¥1,040,000 (Direct Cost: ¥800,000、Indirect Cost: ¥240,000); Fiscal Year 2026: ¥1,040,000 (Direct Cost: ¥800,000、Indirect Cost: ¥240,000); Fiscal Year 2025: ¥2,600,000 (Direct Cost: ¥2,000,000、Indirect Cost: ¥600,000)
• Keywords: パルス重イオンビーム / レーザーイオン源 / パルスイオン注入

Outline of Research at the Start

本研究の目的である次世代半導体への新しい導電率制御技術の実現を達成するため、パルスイオンビームによるp-n接合の作製を試み、パルスイオン注入法の有用性を実証する。この目的に向け、本計画の前半では、パルスイオンビーム源の繰返し運転に向けた装置改良及びイオンビームのショット安定性などの出力特性を評価する。後半では、半導体材料にp型・n型ドーパント用のパルス重イオンビームを照射し、イオン注入量や注入深さのショット安定性や精度を評価し、p-n接合試料の電気特性などを評価する。