高性能な圧電膜パターンを簡便に形成する新手法における膜成長機序の解明

• Project/Area Number: 25K08286
• Research Category: Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
• Allocation Type: Multi-year Fund
• Section: 一般
• Review Section: Basic Section 26020:Inorganic materials and properties-related
• Research Institution: Toyama Industrial Technology Research and Development Center
• Principal Investigator: 坂井 雄一 富山県産業技術研究開発センター, その他部局等, 副主幹研究員 (70416155)
• Project Period (FY): 2025-04-01 – 2029-03-31
• Project Status: Granted (Fiscal Year 2025)
• Budget Amount: ¥4,680,000 (Direct Cost: ¥3,600,000、Indirect Cost: ¥1,080,000); Fiscal Year 2028: ¥780,000 (Direct Cost: ¥600,000、Indirect Cost: ¥180,000); Fiscal Year 2027: ¥780,000 (Direct Cost: ¥600,000、Indirect Cost: ¥180,000); Fiscal Year 2026: ¥910,000 (Direct Cost: ¥700,000、Indirect Cost: ¥210,000); Fiscal Year 2025: ¥2,210,000 (Direct Cost: ¥1,700,000、Indirect Cost: ¥510,000)
• Keywords: 圧電 / 配向 / 厚膜 / 印刷

Outline of Research at the Start

スクリーン印刷と熱処理のみの簡便な工程で、Pb(Mg1/3Nb2/3)O3-PbTiO3などの圧電材料において高配向度の膜パターンが作製可能であることを見出した。粉体を印刷で部分的に供給し、複数の結晶粒を膜厚方向に成長させる新手法であり、以下の課題に沿って、配向膜形成メカニズムを解明するとともに高性能な圧電膜パターンを簡便に作製する手法を確立する。
【研究課題1】 本手法が適用可能な材料と配向膜形成初期過程の検討
【研究課題2】 配向膜成長過程の検討
【研究課題3】 作製膜へのAC分極の適用