Precision pulse plating of alloy films with periodic concentration gradients and search for a new strengthening principle

• Project/Area Number: 25K08293
• Research Category: Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
• Allocation Type: Multi-year Fund
• Section: 一般
• Review Section: Basic Section 26030:Composite materials and interfaces-related
• Research Institution: Osaka Metropolitan University
• Principal Investigator: 兼子 佳久 大阪公立大学, 大学院工学研究科, 教授 (40283098)
• Project Period (FY): 2025-04-01 – 2028-03-31
• Project Status: Granted (Fiscal Year 2025)
• Budget Amount: ¥4,550,000 (Direct Cost: ¥3,500,000、Indirect Cost: ¥1,050,000); Fiscal Year 2027: ¥1,820,000 (Direct Cost: ¥1,400,000、Indirect Cost: ¥420,000); Fiscal Year 2026: ¥1,170,000 (Direct Cost: ¥900,000、Indirect Cost: ¥270,000); Fiscal Year 2025: ¥1,560,000 (Direct Cost: ¥1,200,000、Indirect Cost: ¥360,000)
• Keywords: 電気めっき / ナノ構造材料 / 傾斜組成材料 / 硬さ

Outline of Research at the Start

成長方向に周期的な濃度勾配を有する合金めっき膜を成膜し，それらの力学的特性を評価するとともに，その強化原理を解明することを目的とする。対象とする濃度勾配膜は，結晶型と結晶/非晶複合型の2種類である。本課題では，パルスめっき法を利用してより精密な濃度変動を有する合金膜の成膜し，高強度化を試みる。様々な濃度変動を有する濃度勾配膜の強度や微視的構造を調査することによって，強化原理を探究する。