Novel Antibody Concentration Test Kit Using Laser-Generated Radicals, Topographical Structures, and Printing Technology

• Project/Area Number: 25K08299
• Research Category: Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
• Allocation Type: Multi-year Fund
• Section: 一般
• Review Section: Basic Section 26030:Composite materials and interfaces-related
• Research Institution: National Institute of Advanced Industrial Science and Technology
• Principal Investigator: 渕脇 雄介 国立研究開発法人産業技術総合研究所, 生命工学領域, 主任研究員 (80468884)
• Project Period (FY): 2025-04-01 – 2028-03-31
• Project Status: Granted (Fiscal Year 2025)
• Budget Amount: ¥4,680,000 (Direct Cost: ¥3,600,000、Indirect Cost: ¥1,080,000); Fiscal Year 2027: ¥1,820,000 (Direct Cost: ¥1,400,000、Indirect Cost: ¥420,000); Fiscal Year 2026: ¥1,430,000 (Direct Cost: ¥1,100,000、Indirect Cost: ¥330,000); Fiscal Year 2025: ¥1,430,000 (Direct Cost: ¥1,100,000、Indirect Cost: ¥330,000)
• Keywords: 抗体濃縮 / 印刷 / ラジカル

Outline of Research at the Start

本研究ではレーザー照射によって生成されるラジカルを効率的に活用し、その寿命を延ばすポリマーマトリックスを駆使した新しい分子認識界面の構築を目指す。従来の化学処理法や膜技術では、抗体を基板上に安定的に固定化する際に、配向の乱れや固定化密度の限界が課題となっていた。本研究では、ラジカルを介した抗体と樹脂基板の直接結合により、これらの課題を克服し、高い安定性と機能性を持つ界面の構築を検討する。さらに、レーザー照射によって形成される表面トポグラフィーと微量印刷技術を組み合わせることで抗体の3次元的な固定化を目指した高感度な検査キットの構築を目指す。