ベンゾフェノン含有シルセスキオキサンを中間層とする表面親水化法の開発

Research Project

Project/Area Number	25K08302
Research Category	Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
Allocation Type	Multi-year Fund
Section	一般
Review Section	Basic Section 26030:Composite materials and interfaces-related
Research Institution	Osaka Research Institute of Industrial Science and Technology
Principal Investigator	御田村紘志地方独立行政法人大阪産業技術研究所, 森之宮センター, 主任研究員 (90437054)
Project Period (FY)	2025-04-01 – 2028-03-31
Project Status	Granted (Fiscal Year 2025)
Budget Amount *help	¥4,680,000 (Direct Cost: ¥3,600,000、Indirect Cost: ¥1,080,000) Fiscal Year 2027: ¥1,690,000 (Direct Cost: ¥1,300,000、Indirect Cost: ¥390,000) Fiscal Year 2026: ¥650,000 (Direct Cost: ¥500,000、Indirect Cost: ¥150,000) Fiscal Year 2025: ¥2,340,000 (Direct Cost: ¥1,800,000、Indirect Cost: ¥540,000)
Keywords	ベンゾフェノン / シルセスキオキサン / 光グラフト重合 / 表面親水化
Outline of Research at the Start	本研究は、光重合開始剤と知られるベンゾフェノンを含有するシルセスキオキサン(BP-SQ)塗膜を親水性ポリマーとポリマー基材の中間接着層として適用し、SQ表面での親水性ポリマーの光グラフト(表面化学修飾)に加え、塗膜内部でのBP光2量化架橋による硬質保護膜形成、基材界面でのBPの光ラジカル再結合(界面強接着)の3種の光反応を同時に進行させ、長寿命な表面親水化を実現するものである。