電離放射線に感応する有機・無機ハイブリッド水溶性レジストの開発と応用

• Project/Area Number: 25K08526
• Research Category: Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
• Allocation Type: Multi-year Fund
• Section: 一般
• Review Section: Basic Section 31010:Nuclear engineering-related
• Research Institution: The University of Osaka
• Principal Investigator: 岡本 一将 大阪大学, 産業科学研究所, 助教 (10437353)
• Project Period (FY): 2025-04-01 – 2028-03-31
• Project Status: Granted (Fiscal Year 2025)
• Budget Amount: ¥4,550,000 (Direct Cost: ¥3,500,000、Indirect Cost: ¥1,050,000); Fiscal Year 2027: ¥1,690,000 (Direct Cost: ¥1,300,000、Indirect Cost: ¥390,000); Fiscal Year 2026: ¥1,690,000 (Direct Cost: ¥1,300,000、Indirect Cost: ¥390,000); Fiscal Year 2025: ¥1,170,000 (Direct Cost: ¥900,000、Indirect Cost: ¥270,000)
• Keywords: フォトレジスト / 有機・無機ハイブリッド / EUVリソグラフィ / 水溶性レジスト

Outline of Research at the Start

半導体製造用として用いられる次世代EUVリソグラフィでの加工を達成するためには、エネルギー吸収効率の高い重金属をレジストに組み込む有機・無機ハイブリッド系材料（メタルレジスト）が不可欠である。一方でこれまで開発されてきたメタルレジストは有機溶剤による現像が必要であり、従来の水系現像システムが使えなくなる欠点を有する。そこで本研究では、水溶性高分子に重金属元素を組み込む新規水溶性メタルレジストの開発とメタルレジスト自身を金属酸化物に転換することによるデバイス構築応用技術の展開を目指す。