Mechanistic Study of Photochemical Silica Transformation under Deep UV Light in an Air-Isolated Environment

• Project/Area Number: 25K08777
• Research Category: Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
• Allocation Type: Multi-year Fund
• Section: 一般
• Review Section: Basic Section 35030:Organic functional materials-related
• Research Institution: Kyushu University
• Principal Investigator: 興 雄司 九州大学, システム情報科学研究院, 教授 (10243908)
• Co-Investigator(Kenkyū-buntansha): 吉岡 宏晃 九州大学, システム情報科学研究院, 准教授 (20706882) ; 陳 静涵 九州大学, システム情報科学研究院, 助教 (11020694)
• Project Period (FY): 2025-04-01 – 2028-03-31
• Project Status: Granted (Fiscal Year 2025)
• Budget Amount: ¥4,680,000 (Direct Cost: ¥3,600,000、Indirect Cost: ¥1,080,000); Fiscal Year 2027: ¥910,000 (Direct Cost: ¥700,000、Indirect Cost: ¥210,000); Fiscal Year 2026: ¥1,430,000 (Direct Cost: ¥1,100,000、Indirect Cost: ¥330,000); Fiscal Year 2025: ¥2,340,000 (Direct Cost: ¥1,800,000、Indirect Cost: ¥540,000)
• Keywords: シリコーン / シリカ / マイクロ構造 / 深紫外光

Outline of Research at the Start

代表者が初めて確認した、新規材料である共重合体PDMSに172nm深紫外光を照射することで、表層より数ミクロン以上をシリカ化していくプロセスについて、
①外部からの酸素共有を不要とし、固体状態の前駆体を構成する酸素を用いてシリカ化が可能セあることを確認し、そのプロセスの最適条件を与える構成比及び照射所条件などを明らかにする。②プロセス最適化を受けて、前駆体である共重合体PDMSの前処理加工を組みあわせることで、2.5次元や３次元の自由なインプリントやインクジェットによるシリカ化デバイスを実現するプラットフォーム研究を行う。③前駆体の最適設計の為の知見を明らかにする。