LABプロセスを用いたインプラント周囲炎の革新的再生治療法創出

• Project/Area Number: 25K13061
• Research Category: Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
• Allocation Type: Multi-year Fund
• Section: 一般
• Review Section: Basic Section 57040:Regenerative dentistry and dental engineering-related
• Research Institution: Hokkaido University
• Principal Investigator: 西田 絵利香 北海道大学, 歯学研究院, 助教 (50779882)
• Co-Investigator(Kenkyū-buntansha): 宮治 裕史 北海道大学, 歯学研究院, 教授 (50372256) ; 蔀 佳奈子 北海道大学, 歯学研究院, 助教 (70881449) ; 黒嶋 伸一郎 北海道大学, 歯学研究院, 教授 (40443915) ; 大矢根 綾子 国立研究開発法人産業技術総合研究所, 材料・化学領域, 総括研究主幹 (50356672) ; 島袋 将弥 東京科学大学, 総合研究院, 助教 (40883434)
• Project Period (FY): 2025-04-01 – 2028-03-31
• Project Status: Granted (Fiscal Year 2025)
• Budget Amount: ¥4,680,000 (Direct Cost: ¥3,600,000、Indirect Cost: ¥1,080,000); Fiscal Year 2027: ¥1,430,000 (Direct Cost: ¥1,100,000、Indirect Cost: ¥330,000); Fiscal Year 2026: ¥1,560,000 (Direct Cost: ¥1,200,000、Indirect Cost: ¥360,000); Fiscal Year 2025: ¥1,690,000 (Direct Cost: ¥1,300,000、Indirect Cost: ¥390,000)
• Keywords: アパタイトコーティング / インプラント周囲炎

Outline of Research at the Start

本研究チームではこれまで，歯科用半導体レーザー，光吸収剤，ならびにリン酸カルシウム過飽和溶液を用い，材料や歯面の標的部位にアパタイトを迅速成膜する技術「レーザー援用バイオミメティック（LAB）プロセス」を開発してきた．本研究では，上記の成膜技術を歯科用インプラントに展開する，光吸収剤による前処理条件ならびにレーザー照射条件を検討・最適化することによって，マイクロポーラス構造を有するインプラント表面への迅速なアパタイト成膜を図る．成膜前後のインプラント表面の物理化学的性質ならびに生物学的性質を評価し，インプラント周囲炎再生治療法の創出指針を築く．