Design of aqueous concentrated halide baths for high entropy alloy plating

• Project/Area Number: 25K17867
• Research Category: Grant-in-Aid for Early-Career Scientists
• Allocation Type: Multi-year Fund
• Review Section: Basic Section 26060:Metals production and resources production-related
• Research Institution: Tohoku University
• Principal Investigator: 安達 謙 東北大学, 多元物質科学研究所, 助教 (10880057)
• Project Period (FY): 2025-04-01 – 2027-03-31
• Project Status: Granted (Fiscal Year 2025)
• Budget Amount: ¥4,810,000 (Direct Cost: ¥3,700,000、Indirect Cost: ¥1,110,000); Fiscal Year 2026: ¥1,300,000 (Direct Cost: ¥1,000,000、Indirect Cost: ¥300,000); Fiscal Year 2025: ¥3,510,000 (Direct Cost: ¥2,700,000、Indirect Cost: ¥810,000)
• Keywords: めっき / 合金めっき / 濃厚水溶液 / ハイエントロピー合金

Outline of Research at the Start

飽和溶解度に近い濃度で金属塩を含む濃厚水溶液は、通常の希薄水溶液とは異なる優れた特性を有することから、金属めっき浴の溶媒としての応用研究が近年注目される。ハロゲン化物塩などの濃厚水溶液ではハロゲン濃度を調整することで、通常のめっき浴では制御が難しい金属イオンの還元電位を、幅広くかつ細やかに制御することが可能である。この特性を活用し、本研究では5種の金属を同時に電析することで達成されるハイエントロピー合金めっきの実現に取り組む。扱いが容易な水溶液系における電析手法を拡大することで、ハイエントロピー合金に関する応用研究の進展とともに、実用性の高い新たなコーティング材の創製が期待される。