超微細ナノ空洞の形成に向けたレーザーナノアニールとナノプロセスモニタリング

• Project/Area Number: 25K17971
• Research Category: Grant-in-Aid for Early-Career Scientists
• Allocation Type: Multi-year Fund
• Review Section: Basic Section 30020:Optical engineering and photon science-related
• Research Institution: National Institute of Advanced Industrial Science and Technology
• Principal Investigator: 寺澤 英知 国立研究開発法人産業技術総合研究所, 計量標準総合センター, 研究員 (00993015)
• Project Period (FY): 2025-04-01 – 2028-03-31
• Project Status: Granted (Fiscal Year 2025)
• Budget Amount: ¥4,810,000 (Direct Cost: ¥3,700,000、Indirect Cost: ¥1,110,000); Fiscal Year 2027: ¥520,000 (Direct Cost: ¥400,000、Indirect Cost: ¥120,000); Fiscal Year 2026: ¥910,000 (Direct Cost: ¥700,000、Indirect Cost: ¥210,000); Fiscal Year 2025: ¥3,380,000 (Direct Cost: ¥2,600,000、Indirect Cost: ¥780,000)
• Keywords: レーザープロセス / プロセスモニタリング / 超短パルスレーザー

Outline of Research at the Start

本研究は、従来のナノ空洞よりも遥かに小さい超微細ナノ空洞を透明材料内部に形成することを目的とし、ナノ空洞の表面をアニールすることでナノ空洞を"閉じる"ナノアニール技術の開発を行う。また、ナノプロセス技術の開発に必要不可欠となるナノプロセスモニタリング手法として、偏光や位相などの光の性質を活用した非破壊・高速イメージング計測技術を開発し、ナノプロセス技術の最適化工程を飛躍的に加速させる。