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生成AIと量子コンピュータによる高分子構造配置バックマッピング技術の開発

Research Project

Project/Area Number 25K21217
Research Category

Grant-in-Aid for Early-Career Scientists

Allocation TypeMulti-year Fund
Review Section Basic Section 60100:Computational science-related
Research InstitutionNational Institute of Advanced Industrial Science and Technology

Principal Investigator

遠藤 克浩  国立研究開発法人産業技術総合研究所, 材料・化学領域, 研究員 (80964858)

Project Period (FY) 2025-04-01 – 2028-03-31
Project Status Granted (Fiscal Year 2025)
Budget Amount *help
¥4,810,000 (Direct Cost: ¥3,700,000、Indirect Cost: ¥1,110,000)
Fiscal Year 2027: ¥780,000 (Direct Cost: ¥600,000、Indirect Cost: ¥180,000)
Fiscal Year 2026: ¥1,300,000 (Direct Cost: ¥1,000,000、Indirect Cost: ¥300,000)
Fiscal Year 2025: ¥2,730,000 (Direct Cost: ¥2,100,000、Indirect Cost: ¥630,000)
Keywordsバックマッピング / 生成AI / 量子コンピュータ / マルチスケールシミュレーション
Outline of Research at the Start

高分子材料は注目する時間スケールによって異なるふるまいを持つ材料である。このため,高分子材料を計算するシミュレーション手法もまた階層的であり,各スケールにおいて異なるシミュレーション手法が使用される.これらを統合的に活用するマルチスケールシミュレーションの実現のため,各スケール間の構造情報を変換する手法の開発が求められている.本研究では,この構造情報の変換を生成AIと量子コンピュータにより実現する新たな方法を開発する.

URL: 

Published: 2025-04-17   Modified: 2025-06-20  

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