生成AIと量子コンピュータによる高分子構造配置バックマッピング技術の開発

• Project/Area Number: 25K21217
• Research Category: Grant-in-Aid for Early-Career Scientists
• Allocation Type: Multi-year Fund
• Review Section: Basic Section 60100:Computational science-related
• Research Institution: National Institute of Advanced Industrial Science and Technology
• Principal Investigator: 遠藤 克浩 国立研究開発法人産業技術総合研究所, 材料・化学領域, 研究員 (80964858)
• Project Period (FY): 2025-04-01 – 2028-03-31
• Project Status: Granted (Fiscal Year 2025)
• Budget Amount: ¥4,810,000 (Direct Cost: ¥3,700,000、Indirect Cost: ¥1,110,000); Fiscal Year 2027: ¥780,000 (Direct Cost: ¥600,000、Indirect Cost: ¥180,000); Fiscal Year 2026: ¥1,300,000 (Direct Cost: ¥1,000,000、Indirect Cost: ¥300,000); Fiscal Year 2025: ¥2,730,000 (Direct Cost: ¥2,100,000、Indirect Cost: ¥630,000)
• Keywords: バックマッピング / 生成AI / 量子コンピュータ / マルチスケールシミュレーション

Outline of Research at the Start

高分子材料は注目する時間スケールによって異なるふるまいを持つ材料である。このため，高分子材料を計算するシミュレーション手法もまた階層的であり，各スケールにおいて異なるシミュレーション手法が使用される．これらを統合的に活用するマルチスケールシミュレーションの実現のため，各スケール間の構造情報を変換する手法の開発が求められている．本研究では，この構造情報の変換を生成AIと量子コンピュータにより実現する新たな方法を開発する．