光磁気メモリー用アモルファス合金薄膜のミクロ構造解析
| Project/Area Number |
61460195
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| Research Category |
Grant-in-Aid for General Scientific Research (B)
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| Allocation Type | Single-year Grants |
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| Research Field |
Physical properties of metals
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| Research Institution | Tohoku University |
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Principal Investigator |
鈴木 謙爾 東北大学, 金属材料研究所, 教授 (10005861)
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| Co-Investigator(Kenkyū-buntansha) |
福永 俊晴 東北大学, 金属材料研究所, 助手 (60142072)
神山 智明 東北大学, 金属材料研究所, 助手 (90005926)
甲斐 鎌三 東北大学, 金属材料研究所, 助手 (40005947)
伊藤 文武 東北大学, 金属材料研究所, 助教授 (60005907)
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| Project Period (FY) |
1986 – 1987
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| Project Status |
Completed (Fiscal Year 1987)
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| Budget Amount *help |
¥6,400,000 (Direct Cost: ¥6,400,000)
Fiscal Year 1987: ¥1,000,000 (Direct Cost: ¥1,000,000)
Fiscal Year 1986: ¥5,400,000 (Direct Cost: ¥5,400,000)
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| Keywords | 薄膜X線回折 / クラスター・イオン・ビーム堆積薄膜 / Fe膜 / NiーVアモルファス合金膜 / ナノ・メーター組織 / アモルファス合金薄膜 / Fe / Fe-Tb合金 / クラスター・イオン・ビーム堆積法 / 磁気的性質 / ミクロ構造 |
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| Research Abstract |
昭和61年度において,極低入射角X線回折装置の整備およびデータ解析プログラムの開発を行ったので,これを基礎として昭和62年度においては,種々の遷移金属基アモルファス合金薄模試料を作製し,実際に構造解析を試みた. (1)クラスター・イオン・ビーム堆積法によりガラス基板上に作製されるFeーB系アモルファス合金におけるFeーFe相関短範囲構造に極めて類似した構造を有することが確められた. (2)DCースパッター堆積法により作製されたNiー42at%Vアモルファス合金膜中のNiーNi相関短範囲構造のみをパルス中性子全散乱により選択的に測し,NiーNi相関の中距離秩序を調べた. (3)Zr金属ターゲットをAr^+イオンビーム・スパッターして得られるZr気流中にNiクラスターを通過させることにより,NiZrアモルファス合金薄膜により外周がコーティングされたNifcc結晶超微粒子より成るナノ・メーター組織を作ることができた.
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Report
(2 results)
Research Products
(7 results)
