配位力の弱いオレフィン基質の触媒的不斉水素化の研究

Research Project

Project/Area Number	62215008
Research Category	Grant-in-Aid for Special Project Research
Allocation Type	Single-year Grants
Research Institution	Tokyo Institute of Technology
Principal Investigator	山本経二東京工業大学, 工学部, 助教授 (80025999)
Project Period (FY)	1987
Project Status	Completed (Fiscal Year 1987)
Budget Amount *help	¥1,400,000 (Direct Cost: ¥1,400,000) Fiscal Year 1987: ¥1,400,000 (Direct Cost: ¥1,400,000)
Keywords	不斉水素化 / 速度論的分割 / β-アミノ酸
Research Abstract	掲題の下に2-〔α-(メトキシカルボニルアミノ)ベンジル〕アクリル酸メチル(1)のジアステレオ面選択水素化を行った. アリルアミン官能基による立体制御を期待して, 1の水素化をRh(COD)(DPPB)^+CLO^-_4, Ru(OCOCF_3)_2(PPh_3)_2を触媒として, 水素圧30atm, 室温で行ったところ, ほぼ完全なanti選択でトレオ生成物(2)を与えた(式1). これはβ-アミノ酸として有用. さらに一般のα-アミノアルキルアクリル酸誘導体についても, 上記Rh触媒で水素化を行ったが, ジアステレオ選択性に一定の傾向はなかった. 不斉Ru触媒にらる速度論的分割: 触媒的不斉合成による光学分割は理想的な手段である. Ru(OAc)_2〔(S)-BINAP〕を触媒として1の水素化を行ったところ, 非常に効果的な速度論的分割が起こり, 反応率60%で回収した1の光学純度はほぼ100%eeに達し, この水素化での相対速度比がK_R/K_S=17であった. フェニル基でなく, メチル基ではトレオ/エリトロ比が78:22と著しく低下するものの, 相対速度比はK_R/K_S=14とあまり変わらなかった.