キレート生成を用いたキラル塩基のデザインとその不斉合成への応用

Research Project

Project/Area Number	62607504
Research Category	Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
Allocation Type	Single-year Grants
Research Institution	The University of Tokyo
Principal Investigator	古賀憲司東京大学, 薬学部, 教授 (10012600)
Project Period (FY)	1987
Project Status	Completed (Fiscal Year 1987)
Budget Amount *help	¥1,500,000 (Direct Cost: ¥1,500,000) Fiscal Year 1987: ¥1,500,000 (Direct Cost: ¥1,500,000)
Keywords	不斉合成子 / エナンチオ選択的脱プロトン化反応 / キラルリチウムアミド / キラルエノレート
Research Abstract	高選択的不斉合成反応の開拓は現代有機合成化学の中心課題の一つである. 本研究は, 不斉塩基を用いるエナンチオ選択的脱プロトン化反応の開発を目的とした. キラルリチウムアミド(2)を用いる. 4-置換シクロヘキサノン類(1)のエナンチオ選択的脱プロトン化反応を行い, キラルなリチウムエノレート(3)を生成させ, 対応するシリルエノールエーテル体(4)を高いエナンチオ選択性で得ている. 本反応の条件を詳細に検討することにより, 以下の諸点が判明した. 1.立体選択性は, キラルアミド(2)の構造に大きく依存する. 特に, 窒素原子のα位の置換基の影響が顕著であり, R^1または, R^2がフェニル基の時に高い立体選択性を示す. 2.シクロヘキサノン類(1)の4位の置換基が, 立体的に峯高いほど立体選択性が高い. 1のアキシアル, エクアトリアルのコンホメーションの固定の度合によるものと考えられる. 3.五員環キレート構造を想定したキラルアミド(2:R^1=OR or NR_2)では, 各種溶媒により異なった選択性を示す. しかし, HMPAの添加により, 選択性が各種溶媒で一定となり, かつ向上する. これは, HMPAの添加により, 2のモノメリックな反応になるためと考えられる.