| Budget Amount *help |
¥2,200,000 (Direct Cost: ¥2,200,000)
Fiscal Year 1987: ¥2,200,000 (Direct Cost: ¥2,200,000)
|
|---|
| Research Abstract |
我々は日本原子力研究所の電子リニアックを用いて強力な低速e^+ビームを発生させて, 表面研究にそれを用いようとしている. このためには特別な装置が必要で, 種々の技術開発を要する. リニアックによりe^+ビームを発生さすのみならすでに開発されている. が表面研究に使用するe^+ビームとしては強度・安定性・連続使用・検出器に対する使用しやすさ等に問題を残している. 今まで実行したe^+ビーム関連の技術開発は下記の通りである.
1.水冷式Taターゲットの使用
2.e^+発生部分の真空パイプ(チェンバー)のSUS→AL製.
3.SUS製クロスの不良(残留磁気)を発見→Alクロスに.
4.Wリボン製モダレーターのリニアックeビームによる劣化→生成格子欠陥を焼鈍して追い出す方法を採用.
5.耐放射線のターボ分子ポンプを安価に開発.
6.低速度e^+ビーム導入用のソレノイド磁場→静電場, つな効率テスト.
7.検出器の制約によるパルスe^+ビーム→DC化……まだ性能は不十分である. 磁気ボトル型装置をつくり原理的には正しいことが確認された.
8.ビームコースの最適条件のための調製法の確立.
9.Brighness Enhancement(輝度増強)装置……チェンバーのみ設計.
10.e^+ビーム表面散乱装置および試料調製装置……チェンバーのみ設計.
以上のうち1, 2, 3, 5, 6は完了したが他は実行中. 残された問題で大きいものは7と9, 10の次の内部設計等. 特にビーム強度測定が首尾よく進んでいない. パルスビームなので個々に計測がむつかしく, フラデーカップによるDC測定にはビーム強度不足とe^-ビームとの混りが技術困難をもたらしている.
|
