| Project/Area Number |
62850118
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| Research Category |
Grant-in-Aid for Developmental Scientific Research
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| Allocation Type | Single-year Grants |
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| Research Field |
Physical properties of metals
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| Research Institution | Tohoku University |
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Principal Investigator |
藤川 辰一郎 東北大学, 工学部, 助手 (50005344)
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| Co-Investigator(Kenkyū-buntansha) |
板垣 喜一 (株)技研エンジニアリングサービス, 技師
平野 賢一 東北大学, 工学部, 教授 (10005209)
中嶋 英雄 東北大学, 金属材料研究所, 助教授 (30134042)
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| Project Period (FY) |
1987 – 1989
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| Project Status |
Completed (Fiscal Year 1989)
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| Budget Amount *help |
¥8,400,000 (Direct Cost: ¥8,400,000)
Fiscal Year 1989: ¥500,000 (Direct Cost: ¥500,000)
Fiscal Year 1988: ¥1,900,000 (Direct Cost: ¥1,900,000)
Fiscal Year 1987: ¥6,000,000 (Direct Cost: ¥6,000,000)
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| Keywords | 自己拡散 / イオンビ-ムスパッタリング / 活性化体積 / 高圧 / デュオプラズマトロンイオン源 / 拡散 / スパッタ / イオンビーム / 拡散係数 / イオン源 |
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| Research Abstract |
10^<-18>m^2s^<-1>以下の小さな拡散係数を決定するための超精度マイクロセクショニング装置(デュオプラズマトロン型イオン源、スパッタ室、試料保持装置、削り粉回収装置およびイオン電流測定装置から成る)について、前年度に引続き改良を加え、ほぼ満足できるように完成させた。種々の物質に対してスパッタ能を測定した結果によると、十分な能力を有することがわかった。この種の装置の重要な条件でもある全スパッタ期間中のスパッタ速度の安定性も満足できるものであった。Cu単結晶におけるAuの不純物拡散を高圧下で研究し活性化体積を低温度範囲で決定した。高温度範囲でのCuの自己拡散の活性化体積と比較し、複空孔の寄与およびCuの自己拡散係数係数の非アレニウス性について検討した。他の金属、アモルファス金属および半導体化合物における拡散についても、この装置で予備実験を行ない、満足できる結果を得ることができた。
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