| Project/Area Number |
63604549
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| Research Category |
Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
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| Allocation Type | Single-year Grants |
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| Research Institution | Mie University |
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Principal Investigator |
新明 正弘 三重大学, 教育学部, 教授 (20000804)
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| Project Period (FY) |
1988
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| Project Status |
Completed (Fiscal Year 1988)
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| Budget Amount *help |
¥2,000,000 (Direct Cost: ¥2,000,000)
Fiscal Year 1988: ¥2,000,000 (Direct Cost: ¥2,000,000)
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| Keywords | フッ素ドープシリカ / 機能性シリカ / ゾル・ゲル法 |
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| Research Abstract |
1.含フッ素シリカゲルの評価に関する研究:SiF_4気体の加水分解で作成した含フッ素シリカを主体にその特徴を比表面積測定、密度測定および走査電顕観察によって評価した。SiF_4の加水分解で作成したゲルは比表面積が40〜170m^2/g程度で熱分解法で作成されているシリカ微粉体(〜1000m^2/g)に比較して微粉ではない。しかし、かさ密度は非常に小さい(1.1〜1.6ml/g)。電顕観察によればこのゲルはシリカネットワークが2次元的に発達した薄膜状を呈しており、その内部に多数の"閉じた気孔"が存在していると考えられる。これがゲルを加熱してガラス化する際の脱フッ素挙動や焼結挙動と関連していることが明らかとなった。
2.部分置換したケイ酸エチルを用いたゾル・ゲル反応:ケイ酸エチルを出発原料とし、種々のアルコールとの間でトランスエステル化反応を行い、部分置換したケイ酸エチルを作成した。この反応の触媒として非水用イオン交換樹脂のアンバーリスト15が有効であることが分った。また、置換される割合はケイ酸エチルとアルコールの混合比で定まり、目的とする置換体を得る条件も明らかになった。一方、この置換体を用いたゾル・ゲル反応におけるシリカネットワーク形成反応の制御に関してはメトキシド基、n-プロポキシド基についてはケイ酸エチルに対する水の混合割合ほど顕著な項かは見い出されなかった。現在、ブトキシド基に効果について検討中である。部分フッ化したケイ酸エチルを原料とするゾル・ゲル反応はゲル化が速く、シリカネットワークの形成反応を充分に制御出来るまでに至っていない。しかし、部分フッ化ケイ酸エチルから作成したゲルと通常のシリカゲルとの混合体をガラス化することによってシリカガラスとの屈折率差で-0.3程度のガラス繊維の作成が可能となった。
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