VHF帯(100メガヘルツ領域)プラズマの発生と制御
| Project/Area Number |
63632511
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| Research Category |
Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
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| Allocation Type | Single-year Grants |
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| Research Institution | Tokyo Institute of Technology |
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Principal Investigator |
小田 俊理 東京工業大学, 工学部, 助教授 (50126314)
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| Co-Investigator(Kenkyū-buntansha) |
杉浦 修 東京工業大学, 工学部, 助手 (10187643)
松村 正清 東京工業大学, 工学部, 教授 (30110729)
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| Project Period (FY) |
1988
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| Project Status |
Completed (Fiscal Year 1988)
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| Budget Amount *help |
¥2,200,000 (Direct Cost: ¥2,200,000)
Fiscal Year 1988: ¥2,200,000 (Direct Cost: ¥2,200,000)
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| Keywords | プラズマ / 高周波プラズマ / VHF / プラズマ診断 / ECRプラズマ |
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| Research Abstract |
VHF帯のプラズマを世界で初めて発生させ、発光スペクトルの観測により、ラジガルの発生過程を調べ、磁界によりVHFプラズマがどのように制御できるかを明らかにした。
1.VHFプラズマの発生
プラズマの発生にはRFとマイクロ波のほぼ中間の周波数である144MHzを使用した。平行平板ダイオード型の電極(直径8cm、間隔3cm)に10〜150WのVHF電力を投入してプラズマ放電を実現させた。RF電力を投入した場合と比較しながら実験を進めた。
2.反応性ガスの検討
水素およびシランガスの放電を実験した。
3.プラズマ内部パラメーターの観察
プラズマ発光スペクトルを観測して内部パラメーター(生成される化学種)と外部制御パラメーター(ガス圧力、ガス流量、VHF電力など)との相関を調べた。シランガスの放電の場合、H、Si、SiHの各発光線強度が外部パラメーターに大きく依存すること、および、堆積される薄膜との特性と相関のあることが明らかにされた。また、VHFプラズマは、RFと比較してラジカル発生効率が高いことが明らかにされた。
4.VHFプラズマの制御
磁界を印加してECR(電子サイクロトロン共鳴)条件を満足させると、さらに効率的にプラズマを発生させることができた。この結果、低電力、低圧力でプラズマを維持することができるようになった。
5.今後の研究計画
反応性プラズマにおける周波数の効果をさらに明確にするため、プラズマ発光の空間分布を詳細に調べるとともに、プローブ測定により電子エネルギー分布特性を明らかにする。
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Report
(1 results)
Research Products
(1 results)
