2010 Fiscal Year Annual Research Report
Project Area | Optoelectronics Frontier by Nitride Semiconductor -Ultimate Utilization of Nitride Semiconductor Material Potential- |
Project/Area Number |
18069011
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Research Institution | Meijo University |
Principal Investigator |
天野 浩 名古屋大学, 工学研究科, 教授 (60202694)
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Keywords | 紫外LED / 紫外LD / 内部量子効率 / 低転位 / AlGaN |
Research Abstract |
本研究開始当初、深紫外LEDの外部量子効率(EQE)は1%に満たなかったか、現在ではピーク波長250nmにおいて5%を超えるLEDが実現されている。有機金属化合物気相成長法において、AlNおよび高Al組成AlGaNの成長に適した高温での成長技術が確立し、発光層内部量子効率(IQE)が格段に高まったこと、及び高Al組成AlGaNの物性理解が深まり、特にキャリアへの活性層への注入に適した素子設計が適用されたことなどが主な理由である。しかし、青色LEDの最高効率であるEQE84%と比較すると、いまだ10分の1に満たない。勿論、アクセプタの活性化エネルギー増加によるp型層正孔濃度の急激な減少等、本質的に困難な点はあるものの、いまだに極限効率とは程遠く、今後も引き続き研究を継続する必要がある。 最終である本年度は (1)IQE向上のためのAlN基板の近接昇華法成長において、成長中のSiC種結晶昇華によるクラック抑制及び成長速度>500μm/hを達成した。 (2)AlNテンプレート上AlGaNにおける貫通転位の挙動をTEM観察し、従来報告例の無かった緩和過程を明らかにした。 (3)紫外・深紫外LEDにおける貫通転位密度とIQEの関係の把握し、波長230-350nmのMQWにおいて、IQEが貫通転位密度のみに依存することを世界で初めて見出した。 (4)紫外LDにおける注入効率の導出法を考案し、酸素アニールによるMgの高活性化を検証した。 (5)レーザリフトオフ(LLO)による高光取り出し効率LED製造プロセスを確立し、薄膜紫外LEDを実現させた。
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[Journal Article] Internal quantum efficiency and internal loss of ultraviolet laser diodes on the low dislocation density AlGaN underlying layer2011
Author(s)
K.Takeda, K.Nagata, T.Ichikawa, K.Nonaka, Y.Ogiso, Y.Oshimura, M.Iwaya, T.Takeuchi, S.Kamiyama, I.Akasaki, H.Amano, H.Yoshida, M.Kuwabara, Y.Yamashita, H.Kan
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Journal Title
physica status solidi (c)
Volume: 8
Pages: 464-466
Peer Reviewed
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[Journal Article] Improved Efficiency of 255-280 nm AlGaN-Based Light-Emitting Diodes2010
Author(s)
Cyril Pernot, Myunghee Kim, Shinya Fukahori, Tetsuhiko Inazu, Takehiko Fujita, Yosuke Nagasawa, Akira Hirano, Masamichi Ippommatsu, Motoaki Iwaya, Satoshi Kamiyama, Isamu Akasaki, Hiroshi Amano
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Journal Title
Applied Physics Express
Volume: 3
Pages: #061004
Peer Reviewed
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[Journal Article] Atomic layer epitaxy of AlGaN2010
Author(s)
Kentaro Nagamatsu, Daisuke Iida, Kenichiro Takeda, Kensuke Nagata, Toshiaki Asai, Motoaki Iwaya, Satoshi Kamiyama, Hiroshi Amano, Isamu Akasaki
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Journal Title
physica status solidi (c)
Volume: 7
Pages: 2368-2370
Peer Reviewed
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[Presentation] 昇華法による単結晶AlNの高速成長2010
Author(s)
山川雅康, 村田一喜, 岩谷素顕, 上山智, 竹内哲也, 赤崎勇, 天野浩, 東正信
Organizer
窒化物ナノ・エレクトロニクス材料研究センター講演会
Place of Presentation
東北大学
Year and Date
20101104-20101105
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[Presentation] Transparent Electrode for UV Light-Emitting-Diodes2010
Author(s)
Kosuke Takehara, Kenichiro Takeda, Kengo Nagata, Hisashi Sakurai, Shun Ito, Motoaki Iwaya, Tetsuya Takeuchi, Satoshi Kamiyama, Isamu Akasaki, Hiroshi Amano
Organizer
International Workshop on Nitride semiconductors (IWN2010)
Place of Presentation
Tampa, Florida USA
Year and Date
20100919-20100924
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[Presentation] Injection Efficiency in AlGaN-based UV Laser Diode2010
Author(s)
Kengo Nagata, Kenichiro Takeda, Yoshinori Oshimura, Kosuke Takehara, Hiroki Aoshima, Shun Ito, Motoaki Iwaya, Tetsuya Takeuchi, Satoshi Kamiyama, Isamu Akasaki, Hiroshi Amano, Harumasa Yoshida, Masakazu Kuwabara, Yoji Yamashita, Hirofumi Kan
Organizer
International Workshop on Nitride semiconductors (IWN2010)
Place of Presentation
Tampa, Florida USA
Year and Date
20100919-20100924
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[Presentation] Development of High Efficiency 255-350 nm AlGaN-Based Light-Emitting Diodes2010
Author(s)
Cyril Pernot, Myunghee Kim, Shinya Fukahori, Tetsuhiko Inazu, Takehiko Fujita, Yosuke Nagasawa, Akira Hirano, Masamichi Ippommatsu, Motoaki Iwaya, Satoshi Kamiyama, Isamu Akasaki, Hiroshi Amano
Organizer
International Workshop on Nitride semiconductors (IWN 2010)
Place of Presentation
Tampa, Florida USA
Year and Date
20100919-20100924
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[Presentation] 紫外発光素子用透明電極の検討2010
Author(s)
深堀真也, シリルペルノ, 金明姫, 藤田武彦, 稲津哲彦, 長澤陽祐, 平野光, 一本松正道, 岩谷素顕, 上山智, 赤崎勇, 天野浩
Organizer
第71回応用物理学会学術講演会
Place of Presentation
長崎大学
Year and Date
20100914-20100917
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[Presentation] ELO AlGaN下地層上に作製した紫外レーザダイオードの特性評価2010
Author(s)
竹田健一郎, 永田賢吾, 竹原孝祐, 青島宏樹, 伊藤駿, 押村吉徳, 岩谷素顕, 竹内哲也, 上山智, 天野浩, 赤崎勇, 吉田治正, 桑原正和, 山下陽滋, 菅博文
Organizer
第71回応用物理学会学術講演会
Place of Presentation
長崎大学
Year and Date
20100914-20100917
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[Presentation] Transmission-electron-microscope characterization of AlGaN/GaN heterostructure on miscut GaN substrate grown by Na flux method2010
Author(s)
Tatsuyuki Sakakibara, Yasuhiro Isobe, Daisuke Iida, Motoaki Iwaya, Tetsuya Takeuchi, Satoshi Kamiyama, Isamu Akasaki, Hiroshi Amano, Mamoru Imada, Yasuo Kitaoka, Yusuke Mori
Organizer
The 16th International Conference on Crystal Growth(ICCG-16)
Place of Presentation
Beijing, China
Year and Date
20100808-20100813
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[Presentation] Reduction in threshold current density of UV laser diode2010
Author(s)
Kengo Nagata, Kentaro Nonaka, Tomoki Ichikawa, Kenichiro Takeda, Motoaki Iwaya, Satoshi Kamiyama, Hiroshi Amano, Isamu Akasaki, Harumasa Yoshida, Masakazu Kuwabara, Yoji Yamashita, Hirofumi Kan
Organizer
The 3rd International Symposium on Growth of III-Nitrides
Place of Presentation
Montpellier, France
Year and Date
20100705-20100707
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[Presentation] Optical waveguide layers in UV laser diodes on the low dislocation density AlGaN underlying layer2010
Author(s)
Kenichiro Takeda, Tomoki Ichikawa, Kengo Nagata, Daisuke Sawato, Yuji Ogiso, Yoshinori Oshimura, Motoaki Iwaya, Satoshi Kamiyama, Hiroshi Amano, Isamu Akasaki, Harumasa Yoshida, Masakazu Kuwabara, Yoji Yamashita, Hirofumi Kan
Organizer
The 37th International Conference of Compound Semiconductors
Place of Presentation
Takamatsu, Japan
Year and Date
20100531-20100604
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[Presentation] Strain relaxation of AlGaN grown on AlN templates by misfit dislocation generation2010
Author(s)
Z.H.Wu, K.Nonaka, Y.Kawai, T.Asai, F.A.Ponce, C.Q.Chen, M.Iwaya, S.Kamiyama, H.Amano, I.Akasaki
Organizer
The 8th International Symposium on Semiconductor Light Emitting Devices (ISSLED2010)
Place of Presentation
Beijing, China
Year and Date
20100516-20100521
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