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2008 Fiscal Year Annual Research Report

高効率ブーメラン型フォトクロミック系の構築

Planned Research

Project AreaNew Horizons of Photochromism: Customized Molecular Design and Novel Applications
Project/Area Number 19050011
Research InstitutionAoyama Gakuin University

Principal Investigator

阿部 二朗  Aoyama Gakuin University, 理工学部, 准教授 (70211703)

KeywordsHABI / 有機ラジカル / 高速消色反応 / ラジカル解離 / 電子スピン共鳴
Research Abstract

本研究課題では、ラジカル解離型フォトクロミズムを示すHABI系を改良することで、発色体であるラジカルの拡散を抑制した高速発消色フォトクロミック分子系を開発することである。平成20年度には、ナフタレン骨格で2分子のイミダゾリルラジカルを束縛した1-NDPI-8-TPI-naphthaleneと、パラシクロファン骨格で束縛したpseudogem-bisDPI[2.2]PCの合成開発に成功した。それらのフォトクロミズムでは、室温ベンゼン溶液中の発色体の半減期がそれぞれ180ミリ秒、33ミリ秒の高速消色反応を示すことがわかった。これらの分子を溶かした溶液に紫外光を照射すると、それぞれ緑色、青色に発色するフォトクロミズムを示す。視覚的には、光を照射している時のみ発色しているように見える。
1-NDPI-8-TPI-naphthaleneはビナフチル部位に起因する軸不斉を有し、ラセミ結晶を得ることができるが、キラルカラムを用いて、それぞれのエナンチオマーに光学分割することができた。これらのエナンチオマーを用いて円二色性スペクトルを測定したところ、消色体はもちろんのこと、発色体であるビラジカルでも円二色性を示し、光ラセミ化を起こさないことが示された。さらに、発色体は不対スピンを有する常磁性種であるため磁気円二色性の発現が期待される。
一方、pseudogem-bisDPI[2.2]PCをPMMAに20wt%の濃度でドープしたPMMA薄膜のフォトクロミック特性を検討したところ、半減期が約20ミリ秒というベンゼン溶液中よりも高速な消色反応を示すことがわかった。さらに、繰り返し耐久性を検討するために、薄膜の同一スポットにナノ秒レーザー(波長 : 355nm、パルス幅 : 5nsec、出力 : 4mJ)を繰り返し照射して、発色体の過渡吸収スペクトルの測定を行った。その結果、PMMA薄膜に10,000回照射しても、全く劣化しないことがわかった。このことは、pseudogem-bisDPI[2.2]PCが非常に安定したフォトクロミック分子であることを示すものであり、実用に供する性能を有しているといえる。

  • Research Products

    (31 results)

All 2009 2008

All Journal Article (3 results) (of which Peer Reviewed: 3 results) Presentation (28 results)

  • [Journal Article] A fast photochromic molecule that colors only under UV light2009

    • Author(s)
      Y. Kishimoto, J. Abe
    • Journal Title

      J. Am. Chem. Soc. 131

      Pages: 4227-4229

    • Peer Reviewed
  • [Journal Article] Photochromism of a radical diffusion-inhibited hexaarylbiimidazole derivative with intense coloration and fast decoloration performance2008

    • Author(s)
      K. Fujita, S. Hatano, D. Kato, J. Abe
    • Journal Title

      Org. Lett. 10

      Pages: 3105-3108

    • Peer Reviewed
  • [Journal Article] Activation parameters for the recombination reaction of intramolecular radical pairs generated from the radical diffusion-inhibited HABI derivative2008

    • Author(s)
      S. Hatano, J. Abe
    • Journal Title

      J. Phys. Chem. A 112

      Pages: 6098-6103

    • Peer Reviewed
  • [Presentation] パラシクロファン骨格を有する散逸抑制型HABIの合成とフォトクロミック特性2009

    • Author(s)
      岸本雄太、阿部二朗
    • Organizer
      2008年光化学討論会
    • Place of Presentation
      大阪府立大学中百舌キャンパス
    • Year and Date
      20091100
  • [Presentation] 高速フォトクロミズム-新規表示メディアへの展開2009

    • Author(s)
      阿部二朗
    • Organizer
      高分子学会印刷・情報記録・表示研究会
    • Place of Presentation
      東京ビッグサイト
    • Year and Date
      2009-10-29
  • [Presentation] クリック手法による金ナノ粒子ネットワークの新規構築法2009

    • Author(s)
      岩崎航治・木本篤志・阿部二朗
    • Organizer
      日本化学会第89春季年会
    • Place of Presentation
      日本大学船橋キャンパス
    • Year and Date
      2009-03-29
  • [Presentation] 分子内CTを2つ有するピリジニウムベタイン誘導体の合成とソルバトクロミズム2009

    • Author(s)
      大川和裕・木本篤志・阿部二朗
    • Organizer
      日本化学会第89春季年会
    • Place of Presentation
      日本大学船橋キャンパス
    • Year and Date
      2009-03-29
  • [Presentation] パラシクロファン骨格を有する高速フォトクロミックHABI誘導体2009

    • Author(s)
      岸本雄太・阿部二朗
    • Organizer
      日本化学会第89春季年会
    • Place of Presentation
      日本大学船橋キャンパス
    • Year and Date
      2009-03-27
  • [Presentation] 複数のフォトクロミック部位を有する高速フォトクロミックHABI誘導体2009

    • Author(s)
      木本篤志・岸本雄太・阿部二朗
    • Organizer
      日本化学会第89春季年会
    • Place of Presentation
      日本大学船橋キャンパス
    • Year and Date
      2009-03-27
  • [Presentation] 高速フォトクロミックHABIの劣化機構についての考察2009

    • Author(s)
      波多野さや佳・阿部二朗
    • Organizer
      日本化学会第89春季年会
    • Place of Presentation
      日本大学船橋キャンパス
    • Year and Date
      2009-03-27
  • [Presentation] 水溶性スピロオキサジンのフォトクロミズム2009

    • Author(s)
      城敦子・木本篤志・阿部二朗
    • Organizer
      日本化学会第89春季年会
    • Place of Presentation
      日本大学船橋キャンパス
    • Year and Date
      2009-03-27
  • [Presentation] ラジカル解離型フォトクロミック系のアモルファス薄膜における光誘起表面レリーフ形成2009

    • Author(s)
      原田ゆかり・菊地あつさ・八木幹雄・生方俊・横山泰・阿部二朗
    • Organizer
      日本化学会第89春季年会
    • Place of Presentation
      日本大学船橋キャンパス
    • Year and Date
      2009-03-27
  • [Presentation] 非局在一重項ビラジカルの電子構造2009

    • Author(s)
      阿部二朗
    • Organizer
      分子研研究会「ビラジカル化学とその展望」
    • Place of Presentation
      分子科学研究所
    • Year and Date
      2009-03-05
  • [Presentation] 高効率ブーメラン型フォトクロミック系の構築2009

    • Author(s)
      阿部二朗
    • Organizer
      科研費補助金特定領域研究「フォトクロミズム」第3回公開シンポジウム
    • Place of Presentation
      京都テルサ
    • Year and Date
      2009-01-24
  • [Presentation] Photochromism of a Radical Diffusion?Inhibited HABI Derivative with Intense Coloration and Fast Decoloration Performance2008

    • Author(s)
      Jiro Abe
    • Organizer
      New Horizons of Photochromism From Design of Molecules to Applications
    • Place of Presentation
      Arras (France)
    • Year and Date
      2008-10-13
  • [Presentation] パラシクロファン骨格を有するラジカル散逸抑制型HABIの合成とフォトクロミック特性2008

    • Author(s)
      岸本雄太、阿部二朗
    • Organizer
      第2回分子科学討論会
    • Place of Presentation
      福岡国際会議場
    • Year and Date
      2008-09-24
  • [Presentation] ラジカル散逸抑制型HABIの動的挙動2008

    • Author(s)
      波多野さや佳、阿部二朗
    • Organizer
      第2回分子科学討論会
    • Place of Presentation
      福岡国際会議場
    • Year and Date
      2008-09-24
  • [Presentation] キラルフォトクロミック化合物から生成するキラルラジカル対2008

    • Author(s)
      藤田華奈、波多野さや佳、和田百代、玉置信之、内藤昌信、河合壮、阿部二朗
    • Organizer
      第2回分子科学討論会
    • Place of Presentation
      福岡国際会議場
    • Year and Date
      2008-09-24
  • [Presentation] 高速キラルフォトクロミズム2008

    • Author(s)
      藤田華奈、波多野さや佳、阿部二朗、和田百代、玉置信之、内藤昌信、中嶋琢也、河合壮
    • Organizer
      科研費補助金特定領域研究「フォトクロミズム」第2回公開シンポジウム
    • Place of Presentation
      東京大学山上会館
    • Year and Date
      2008-09-22
  • [Presentation] 高速フォトクロミズム2008

    • Author(s)
      阿部二朗
    • Organizer
      科研費補助金特定領域研究「フォトクロミズム」第2回公開シンポジウム
    • Place of Presentation
      東京大学山上会館
    • Year and Date
      2008-09-22
  • [Presentation] ヘテロラジカル対を生成する新規ラジカル散逸抑制HABIのフォトクロミズム2008

    • Author(s)
      藤田華奈、波多野さや佳、阿部二朗
    • Organizer
      2008年光化学討論会
    • Place of Presentation
      大阪府立大学中百舌キャンパス
    • Year and Date
      2008-09-12
  • [Presentation] ラジカル散逸抑制型HABIの熱消色反応過程2008

    • Author(s)
      波多野さや佳、阿部二朗
    • Organizer
      2008年光化学討論会
    • Place of Presentation
      大阪府立大学中百舌キャンパス
    • Year and Date
      2008-09-11
  • [Presentation] Photochromism of a Radical Diffusion?Inhibited HABI Derivative with Intense Coloration and Fast Decoloration Performance2008

    • Author(s)
      Jiro Abe
    • Organizer
      XXII IUPAC Symposium on Photochemistry2008
    • Place of Presentation
      Gothenburg (Sweden)
    • Year and Date
      2008-07-28
  • [Presentation] Photochromism of a New Class of Diffusion?Inhibited HABI2008

    • Author(s)
      Sayaka Hatano, Jiro Abe
    • Organizer
      Photochromism of a New Class of Diffusion?Inhibited HABI
    • Place of Presentation
      Gothenburg (Sweden)
    • Year and Date
      2008-07-28
  • [Presentation] ヘテロラジカル対を生成するラジカル散逸抑制HABIのフォトクロミズム2008

    • Author(s)
      藤田華奈、波多野さや佳、・阿部二朗
    • Organizer
      第24回化学反応討論会
    • Place of Presentation
      北海道大学学術交流会館
    • Year and Date
      2008-06-03
  • [Presentation] 散逸抑制型HABIから生成するラジカル対の再結合反応ダイナミックス2008

    • Author(s)
      波多野さや佳、阿部二朗
    • Organizer
      第24回化学反応討論会
    • Place of Presentation
      北海道大学学術交流会館
    • Year and Date
      2008-06-03
  • [Presentation] パラシクロファン骨格を有するラジカル散逸抑制型HABIの合成と光化学反応2008

    • Author(s)
      岸本雄太、阿部二朗
    • Organizer
      第24回化学反応討論会
    • Place of Presentation
      北海道大学学術交流会館
    • Year and Date
      2008-06-02
  • [Presentation] 非局在ビラジカル構造をモノマーユニットとするπ共役ポリマーの合成と物性2008

    • Author(s)
      加藤大輔、阿部二朗
    • Organizer
      第57回高分子学会年次大会
    • Place of Presentation
      パシフィコ横浜展示ホールD・アネックスホール
    • Year and Date
      2008-05-29
  • [Presentation] ラジカル散逸抑制HABIの熱消色反応過程の考察2008

    • Author(s)
      波多野さや佳、藤田華奈、大森裕史、阿部二朗
    • Organizer
      第57回高分子学会年次大会
    • Place of Presentation
      パシフィコ横浜展示ホールD・アネックスホール
    • Year and Date
      2008-05-28
  • [Presentation] 異種ローフィルラジカル部位を有する新規ラジカル散逸抑制HABIのフォトクロミズム2008

    • Author(s)
      藤田華奈、波多野さや佳、加藤大輔、阿部二朗
    • Organizer
      第57回高分子学会年次大会
    • Place of Presentation
      パシフィコ横浜展示ホールD・アネックスホール
    • Year and Date
      2008-05-28
  • [Presentation] ラジカル散逸抑制HABIのフォトクロミズム2008

    • Author(s)
      阿部二朗
    • Organizer
      高分子学会光反応・電子用材料研究会
    • Place of Presentation
      東京理科大学森戸記念館
    • Year and Date
      2008-05-12

URL: 

Published: 2010-06-11   Modified: 2016-04-21  

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