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2011 Fiscal Year Annual Research Report

配列ナノ空間物質の極限ラマン分光

Planned Research

Project AreaNew Materials Science Using Regulated Nano Spaces -Strategy in Ubiquitous Elements
Project/Area Number 19051008
Research InstitutionGifu University

Principal Investigator

久米 徹二  岐阜大学, 工学部, 准教授 (30293541)

Co-Investigator(Kenkyū-buntansha) 佐々木 重雄  岐阜大学, 工学部, 教授 (30196159)
Keywords半導体クラスレート / ラマン散乱 / ナノ結晶 / ラットリング / 高圧XRD
Research Abstract

半導体クラスレートをはじめとする、配列ナノ空間物質の物性を大きく左右するラットリング振動を高圧力下においてラマン分光により直接観測し、ケージサイズを変数としたラットリング振動の特性を調べた。試料として、今回初めてVIII型Siクラスレート(Sr_8(AlGa)_<16>Si_<30>)を用いた。100 cm^<-1>以下の低振動数域に観測されるSrのラットリング振動を圧力20 GPaまで観測することに成功した。同じ試料で得られた高圧XRD実験の結果も合わせ、振動数のケージサイズ依存性を明らかにした。その傾向は、これまで明らかにしてきたI型の半導体クラスレートと同様であった。このことからラットリング振動は、ケージの形状や構成元素にはあまり影響されず、振動が許される空間の大きさと自身の原子サイズで決まることが明らかになった。また、高圧XRD実験から、VIII型クラスレートもI型と同様に、体積の減少を伴う同形構造相転移および非晶質化を生じることが初めて明らかになった。ラットリング振動の振る舞いをさらに詳細に探るための低温・高圧・低波数ラマン測定システムの構築を完了した。液体Heクライオスタット、ダイヤモンド・アンビル・セルが従来の低波数ラマン測定システムに組み込まれ、10 cm^<-1>程度までの低波数領域が10 K以下において数GPa以上という高圧力下において測定可能になった。測定システムを、半導体クラスレートEu_8Ga_<16>Ge_<30>のラマンスペクトルにより評価し、実際に低温・高圧・低波数ラマン測定が可能であることを確認し、その成果を公表した。

Current Status of Research Progress
Current Status of Research Progress

2: Research has progressed on the whole more than it was originally planned.

Reason

これまで行うことにできなかったVIII型クラスレートの高圧ラマン、XRD実験を行いその成果を発表することができた。これにより、高圧極限状態における配列ナノ空間物質のラットリング振動および構造安定性の議論に大いに役立つと期待できる。

  • Research Products

    (17 results)

All 2012 2011

All Journal Article (2 results) (of which Peer Reviewed: 2 results) Presentation (15 results)

  • [Journal Article] Optical Band Gap of Semiconductive Type IT Si Clathrate Purified by Centrifugation2012

    • Author(s)
      R.Himeno, et al
    • Journal Title

      J.Non-Cryst.Solids

    • DOI

      doi:10.1016/j.jnoncrysol.2011.12.064

    • Peer Reviewed
  • [Journal Article] High-Yield Synthesis of Semiconductive Type-II Si Clathrates with Low Na Content2012

    • Author(s)
      F.Ohashi, et al
    • Journal Title

      J.Non-Cryst.Solids

    • DOI

      doi:10.1016/j.jnoncrysol.2011.12.058

    • Peer Reviewed
  • [Presentation] 構造IおよびVIII型クラスレート(Sr8AlxGa16-xSi30)の高圧構造相転移2012

    • Author(s)
      久米徹二
    • Organizer
      日本物理学会2011年年次大会
    • Place of Presentation
      関西学院大(兵庫県)
    • Year and Date
      2012-03-24
  • [Presentation] IおよびVIII型Siクラスレートの高圧ラマンおよびXRD測定2012

    • Author(s)
      今枝佑太
    • Organizer
      特定領域研究「配列ナノ空間を利用した新物質ユビキタス元素戦略」第9回領域会議
    • Place of Presentation
      物質・材料研究機構(つくば市)
    • Year and Date
      2012-01-06
  • [Presentation] 高圧力下における半導体クラスレートのラマン散乱およびXRD研究2012

    • Author(s)
      久米徹二
    • Organizer
      特定領域研究「配列ナノ空間を利用した新物質ユビキタス元素戦略」第9回領域会議
    • Place of Presentation
      物質・材料研究機構(つくば市)
    • Year and Date
      2012-01-06
  • [Presentation] Raman and XRD studies of group-IV clathrates at high pressure2011

    • Author(s)
      T.Kume
    • Organizer
      International Conference of New Science Created by Materials with Nano Spaces : From Fundamentals to Applications
    • Place of Presentation
      Sendai, Japan
    • Year and Date
      2011-11-24
  • [Presentation] High pressure Raman study of type I and VIII clathrates2011

    • Author(s)
      Y.Imaeda
    • Organizer
      International Conference of New Science Created by Materials with Nano Spaces : From Fundamentals to Applications
    • Place of Presentation
      Sendai, Japan
    • Year and Date
      2011-11-24
  • [Presentation] 準後方散乱配置による低温・高圧・低波数ラマン散乱2011

    • Author(s)
      久米徹二
    • Organizer
      第52回高圧討論会
    • Place of Presentation
      沖縄キリスト教学院(那覇)
    • Year and Date
      2011-11-10
  • [Presentation] 低温高圧力下におけるGeクラスレートのゲスト平衡位置とラットリング振動2011

    • Author(s)
      船橋健太
    • Organizer
      第52回高圧討論会
    • Place of Presentation
      沖縄キリスト教学院(那覇)
    • Year and Date
      2011-11-09
  • [Presentation] 構造I型及びVIII型クラスレート・Sr8AlxGa16-xSi30の高圧ラマン散乱2011

    • Author(s)
      今枝佑太
    • Organizer
      第52回高圧討論会
    • Place of Presentation
      沖縄キリスト教学院(那覇)
    • Year and Date
      2011-11-09
  • [Presentation] Observation of Rattling Vibrations in Clathrate under High Pressure and Low Temperature2011

    • Author(s)
      K.Funahashi
    • Organizer
      AIRAPT-23 ; International Conference on High Pressure Science and Technology
    • Place of Presentation
      Mumbai, India
    • Year and Date
      2011-09-30
  • [Presentation] Raman study of Si clathrates Sr8AlxGa16-xSi30 under High Pressure2011

    • Author(s)
      Y.Imaeda
    • Organizer
      AIRAPT-23 ; International Conference on High Pressure Science and Technology
    • Place of Presentation
      Mumbai, India
    • Year and Date
      2011-09-30
  • [Presentation] 半導体クラスレートのラットリング振動とその圧力依存性III2011

    • Author(s)
      久米徹二
    • Organizer
      日本物理学会2011年秋季大会
    • Place of Presentation
      富山大学五福キャンパス(富山市)
    • Year and Date
      2011-09-22
  • [Presentation] Optical Band Gap of Semiconductive Type II Si Clathrate Purified by Centrifugation2011

    • Author(s)
      T.Kume
    • Organizer
      24th International Conference on Amorphous and Nanocrystalline Semiconductors
    • Place of Presentation
      Nara, Japan
    • Year and Date
      2011-08-22
  • [Presentation] 低温・高圧・低波数ラマン散乱測定系の構築2011

    • Author(s)
      船橋健太
    • Organizer
      特定領域研究「配列ナノ空間を利用した新物質ユビキタス元素戦略」第4回若手研究会
    • Place of Presentation
      東北大学・北青葉山キャンパス(仙台市)
    • Year and Date
      2011-07-16
  • [Presentation] Siクラスレート・Sr8AlxGa16-xSi30の高圧ラマン散乱2011

    • Author(s)
      今枝佑太
    • Organizer
      特定領域研究「配列ナノ空間を利用した新物質ユビキタス元素戦略」第4回若手研究会
    • Place of Presentation
      東北大学・北青葉山キャンパス(仙台市)
    • Year and Date
      2011-07-16
  • [Presentation] Rattiling vibration of clathrate under high pressure2011

    • Author(s)
      T.Kume
    • Organizer
      16th International Symposium on Intercalation Compounds (ISIC16)
    • Place of Presentation
      Sec-Ustupky, Czech Republic
    • Year and Date
      2011-05-23

URL: 

Published: 2013-06-26  

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