2009 Fiscal Year Annual Research Report
ナノインプリントによる機能性分子のナノ空間自己組織化制御
| Project Area | Emergent Chemistry of Nano-scale Molecular System |
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20111013
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| Research Institution | University of Hyogo |
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Principal Investigator |
松井 真二 University of Hyogo, 高度産業科学技術研究所, 教授 (00312306)
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| Co-Investigator(Kenkyū-buntansha) |
神田 一浩 兵庫県立大学, 高度産業科学技術研究所, 准教授 (20201452)
春山 雄一 兵庫県立大学, 高度産業科学技術研究所, 助教 (10316036)
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| Keywords | ナノインプリント / ナノ空間 / 機能性分子 / 自己組織化 |
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| Research Abstract |
ナノインプリントはナノメートルスケールパターンを有した金型(モールド)をレジストに押し付けパターン転写を行う技術である。簡便なプロセスであるが高解像のパターン転写が可能である。光反応性高分子液晶は偏向UVを照射し、熱処理を加えることで分子配向を制御可能な高分子液晶である。偏向UVを用いて配向制御を行う場合、ナノメートルスケールの配向制御は難しい。そこで熱ナノインプリントによって偏向UVを照射することなく配向制御可能か検討を行った。
今回使用したパターンは1μmのラインアンドスペース(L&S)パターンである。インプリント圧力は20MPaで行い、モールドと光反応性高分子液晶をスピンコートした基板を150℃まで昇温し熱ナノインプリントを行った。インプリントの結果、L&Sパターンはきれいに転写された。次に転写されたパターンを偏光顕微鏡で観察し、光反応性高分子液晶が配向しているか確認した。一定方向に高分子液晶が配向していれば明視野に、配向方向がランダムであれば暗視野になるように偏光顕微鏡を設定し観察したところ、L&Sパターンがインプリントされたエリアは明視野だったのに対し、モールドのフラットな部分でインプリントされたエリアは暗視やであった。このことからL&Sパターンにインプリントされた光反応性高分子液晶は一定方向に配向することが確認された,次に入射光に偏光を用いたL&Sパターンの回折効率を測定することにより、光反応性高分子液晶の配向方向を調べた。測定の結果、偏光とインプリントされたラインのなす角が0゜の時に回折効率は最大、90゜の時に最小となり、光反応性高分子液晶はラインと平行に配向していることが確認された。
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[Presentation] Configuration Control of Photoreactive Polymer Liquid Crystal byusing Thermal Nanoimprint Mold Pattern2009
Author(s)
M.Okada, S.Manabe, M.Kondo, H.Ono, A.Emoto, Y.Haruyama, K.Kanda, K.Kuramoto, N.Kawatsuki, S.Matsui
Organizer
The 8th International Conference on Nanoimprint and Nanoprint Technology 2009
Place of Presentation
California, USA
Year and Date
2009-11-12
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