ブロック共重合体を利用した寸法安定性を有する高分子液晶の合成

1989 Fiscal Year Annual Research Report

• Project/Area Number: 01550713
• Research Institution: University of Fukui
• Principal Investigator: 小平 俊之 福井大学, 工学部, 教授 (40020226)
• Keywords: ホリシロキサン / 側鎖型液晶高分子 / ブロック共重合体 / ポリエチレングリコ-ル / テレケリックス / 高分子反応 / ポリメチルメタクリレ-ト / ポリウレタン

Research Abstract

側鎖に-CH_2-CH_2-CH_2-O-〓COO-〓-〓O-(CH_2)_3-CH_3を持ち、鎖端にOH基を持つテレケリックポリメチルシロキサン(TPMS)を合成した。TPMSの基本的な反応性を調べるため、ポリエチレングリコ-ルモノオレイルエ-テル(PEO)とジフェニルメタンジイソシアナ-ト(MDI)との反応により、末端にイソシアナ-ト基を有するPEO(PEOM)を合成し、TPMSとPEOMの反応を試みた。これまでジイソシアナ-トとしてトリレンジイソシアナ-トを用いた場合は、生成ブロック共重合体中のTPMSに対するPEOの比は1を越えることはなかったが、今回は1.3まで挙げることができた。しかしそれ以上の高い比を得ることは、反応混合物中のTPMSに対してPEOMを大過剰に用いても達成できなかった。生成ブロック共重合体の熱的性質を示差走査熱量計による測定から検討した。ブロック共重合体のPEO単位の融解にともなう発熱ピ-ク及びTPMS単位の液晶の転移点によるピ-クはともに明瞭に認められた。これらの各成分ブロック鎖の転移点が観測されたことは、このブロック共重合体がミクロ相分離構造をとっていることを示唆している。
アルミニウムポルフィリン錯体を開始剤にしてメチルメタクリレ-ト(MMA)のリビング重合を行い、その系に活性末端に対応する量のプロピレンオキシドを添加して、末端にOH基を有するpoly-MMAを合成した。このpoly-MMAとジフェニルメタンジイソシアナ-トとの反応を行なった後、先に合成したTPMSとの反応によりブロック共重合体の合成を試みたが、反応の進行は認められなかった。TPMSとPEOとのブロック共重合体では各成分ブロック鎖の転移点が観測され、ミクロ相分離構造をとっていることを示唆する結果が得られているので、今後はTPMSとpoly-MMAのような硬いブロック鎖とのブロック共重合体の生成による、寸法安定性を有する液晶高分子合成の条件の検討が必要である。

Research Products

• [Publications] 小平俊之,名原謙治: "側鎖にメソゲン基を有するテレケリックポリシロキサンの合成" 福井大学工学部研究報告. 37. 113-120 (1989)
• [Publications] 小平俊之,品川和博: "側鎖にメソゲン基を有するテレケリックポリシロキサンの合成とその反応" 高分子論文集. 47. (1990)