電気的仮骨の仮骨形成材序の検索と、電気的仮骨の臨床応用に関する基礎的研究

1991 Fiscal Year Annual Research Report

• Project/Area Number: 01571003
• Research Institution: Asahi University
• Principal Investigator: 亀谷 明秀 朝日大学, 歯学部, 講師 (70121316)
• Co-Investigator(Kenkyū-buntansha): 田辺 俊一郎 朝日大学, 歯学部, 助手 (60227197) ; 永原 国央 朝日大学, 歯学部, 助手 (90139915)
• Keywords: 電気刺激 / 電気的仮骨 / 細胞外基質 / タイプI,II,III,IVコラ-ゲン / プロテオグリカン / 免疫組織化学 / 骨膜移植 / 電気刺激骨膜植植

Research Abstract

電気的仮骨形成過程に見られる細胞外基質の変化について:今回はタイプI、II、III、IVコラ-ゲンの局在と分布について検索した。この結果、1.未分化間葉系細胞増殖期では電気刺激骨膜内層にタイプII、IIIコラ-ゲンのフィブリンネットワ-クが認められた。2.類骨層にはタイプI、II、III、IVコラ-ゲンの集積が認められた。3.新生骨基質には既存の骨基質と同程度のタイプI、II、III、IVコラ-ゲンの集積が認められた。4.軟骨については、初期に軟骨細胞にタイプIIコラ-ゲンが強陽性に見られ、経日的に軟細基質にタイプI、II、III、IVタイプの集積が見られた。5.プロテオグリカンの局在と比較してみると、(1)増殖した間葉系の細胞層と類骨層ではタイプI、II、IIIコラ-ゲンとコンドロイチン4硫酸プロオグリカン、コンドロイチン6硫酸プロテオグリカン、デルマタン硫酸プロテオグリカン、ケラタン硫酸プロテオグリカンとが同様の局在と分布を示した。(2)新生骨基質ではプロテオグリカンの集積が減じてもタイプI、II、IIIコラ-ゲンの集積が見られた。(3)軟骨では初期に増殖した間葉系の細胞層と類骨層にタイプI、II、III、IVコラ-ゲンとコンドロイチン4硫酸プロテオグリカン、デルマタン硫酸プロテオグリカン、ケラタン硫酸プロテオグリカンとが同様の局在と分布を示し、プロテオグリカンの集積が減じてもコラ-ゲンは陽性を示した。
電気刺激骨膜移植について:今回は各分化ステ-ジの電気刺激骨膜をラット腸骨に移植し経日的に標本を採取し脱灰後組織学的に検索した。前回の筋肉内へ移植した場合は3日目、5日目の類骨形成期の電気刺激骨膜が旺盛に新生骨を形成したが、腸骨内へ移植した場合は7日目、9日目の骨形成期の電気刺激骨膜を移植した方が母床で新生骨を旺盛に形成した。

Research Products

• [Publications] 森 啓充: "電気的仮骨形成過程におけるプロテオグリカンとSー100蛋白の免疫組織化学的検討" 日本口腔科学会雑誌. 41. (1992)
• [Publications] Akihide Kamegai,et al.: "Possible mechanism of electric callus formation-Histochemical and ultrastructural studies-" Asian Journal of Oral and Maxillofacial Surgery. 3. 1-13 (1991)
• [Publications] Akihide Kamegai,et al.: "Immunohistochemical demonstration of S-100 protein in cartilage tissue inducing by electric callus formation or by bone morphogenetic protein" Acta histochemica et cytochemica. 23. 209-217 (1990)
• [Publications] Akihide Kamegai,et al.: "Mandibular reconstruction using electrically stimulated periosteum" Journal of Cranio-Maxillo-Facial Surgery. 18. 8-13 (1990)