1990 Fiscal Year Annual Research Report
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01850060
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| Research Institution | Shinshu University |
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Principal Investigator |
小沼 義治 信州大学, 工学部, 教授 (40020979)
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| Co-Investigator(Kenkyū-buntansha) |
菱田 美加 長野県工業試験場, 第一素材部, 技師
木内 光宏 長野計器製作所, 技術部, 部長
上村 喜一 信州大学, 工学部, 助教授 (40113005)
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| Keywords | センサ / 炭化珪素 / 薄膜 / プラズマCVD |
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| Research Abstract |
当該年度においても、初年度に引き続いてプラズマCVD法によって生成された炭化珪素薄膜を用いた高感度、耐環境性に優れ且つ安定性のある圧力センサを開発するために、改良された装置を用いて薄膜材料の低温結晶化をはかるとともに複合膜の形成へ展開をはかり、以下の結果を得た。
1、化学量論的組成比をもった耐熱性炭化珪素薄膜を形成するためAuger,ESCAによるSiC薄膜の評価を行なうとともに圧力センサとしての基礎特性を得ることが出来た。
文献:Sensors and Materials,2,207ー216(1991)
2、SiCとの複合膜の生成を試み、そのESCAによる組成分析を行なうとともに圧力センサの基礎特性である歪抵抗効果を測定した結果、所期の目的である耐熱性を有し且つ素子の高感度化、生成の低温化に役立つことが示された。
文献:ICACSC'90,Washington
以上の結果により、炭化珪素並びにその複合膜を高温度領域で使用するセンサ用材料の1つとして実用化するための基本的な技術に関するいくつかの重要な知見が得られ、実用化のための基礎が確立された。
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[Publications] Y.Onuma,K.Kamimura,Y.Nagura,Cai.H.& M.Kiuchi: "Polycrystalline Silicon Carbide Films for Piezoresistive Element" Sensors and Materials. 2. 207-216 (1991)
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[Publications] Y.Onuma,K.Kamimura,Y.Nagura,K.Koike & S.Yanekubo: "Polycrystalline SiliconーSilicon Carbide Thin Films Produced by Plasma Enhanced CVD" Springer Proceedings in Physics.
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[Publications] 小沼 義治,上村 喜一,長畦 文男,関 広之,木内 光宏,蔡 浩一: "プラズマCVD法による多結晶Si薄膜の作成" 電気学会論文誌. 110ーA. 259-266 (1990)
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[Publications] K.Kamimura,N.Kimura,Y.Onuma & T.Homma: "Pressure Sensor Using Polycrystalline Germanium Films Prepared by Plasmaーassisted Chemical Vapour Deposition" Sensors and Autnators(Elsevier Seqoia). A21ーA23. 958-960 (1990)
