1991 Fiscal Year Annual Research Report
表面EXAFSによる単結晶傾斜面上のステップでの化学吸着種の局所構造解析
Project/Area Number |
02453005
|
Research Institution | University of Tokyo |
Principal Investigator |
黒田 晴雄 東京大学, 理学部, 教授 (00011479)
|
Co-Investigator(Kenkyū-buntansha) |
朝倉 清高 東京大学, 理学部, 助手 (60175164)
難波 秀利 東京大学, 理学部, 助手 (40118766)
|
Keywords | ステップ / 単結晶 / 化学吸着 / 表面EXAFS / 光電子分光 / ニッケル / 局所構造 / 電子状態 |
Research Abstract |
本年度は、昨年度に整備した装置を用いて、次の研究を行なった。 (1)昨年度の結果、イオウはNi(79 11)表面で吸着量の少ない範囲ではステップの4ーfoldサイトに選択性良く吸着することが分かった。本年度は、さらに、イオウの吸着量、試料温度を系統的に変えた時の吸着構造の変化を調べた。その結果、室温で吸着量を増加させるとステップサイトに吸着しているイオウを基点としてイオウの(/3×/3)R30°構造の超格子が形成されることが分かった。この構造はNi(79 11)表面のテラスと同じ原子配置のNi(111)面では室温では存在しないために、ステップに前吸着しているイオウがその後の吸着構造を支配していると考えられる。 (2)Ni(79 11)、および、Ni(111)表面にリンを吸着させて、その構造を調べた。それらの結果、リンはこれらの結晶表面を再配列させることがわかった。Ni(79 11)表面では、0.1単原子層程度のリンの吸着によりステップの再配列が起きて、表面は(135)と(111)にファセット化する。0.1単原子層のリンはちょうど(79 11)表面上のステップサイトを飽和させる吸着量に相当しているので、ステップサイトとリンの強い相互作用のために再配列が誘起されていると考えられる。 (3)本年度は、昨年度に見出したNi(79 11)表面のステップサイトに局在化した電子準位の分散関係を決定した。ステップサイトに局在化した電子準位は、ステップに垂直な方向にかなり局在していることが明らかになり、1次元性を有していると考えられる。 (4)窒素原子吸着によるN(111)表面の再配列を見出して、その構造変化を表面敏感なNEXAFSの測定と多重散乱による理論解析により明らかにした。それらの結果、Ni(111)表面に吸着した窒素原子は、約400℃の加熱により6回対称の(111)表面を(100)に似たほぼ4回対称の表面に再配列させることがわかった。
|
Research Products
(5 results)
-
[Publications] H.Namba: "Electronic states localized at step edges on Ni(79 11)surfaces studied by angleーresolved photoelectron spectroscopy" Phys.Rev.Letters. (1992)
-
[Publications] S.Konishi: "SEXAFS studies on the structure of P/Ni(79 11)" Photon Factory Activity Report. 9. (1991)
-
[Publications] Y.Okawa: "Nitrigen adsorption induced reconstruction of Ni(111)studied by near edge xーray absorption fine structure" Photon Factory Activity Report. 9. (1991)
-
[Publications] H.Namba: "Photodecomposition of ammonia adsorbed on Si(100)by synchrotron radiation" Technical Digest of International Workshop of Science and Technology for Surface Reaction Process. 95-96 (1992)
-
[Publications] M.Funabashi: "Surface structure of Cl/Ni(111)determined by surface EXAFS spectroscopy and soft xーray standing wave method" Surface Sci. 242. 59 (1991)