1991 Fiscal Year Annual Research Report

サブハ-フミクロンのパタ-ニングが可能なポジ型レジスト高分子材料の開発

Research Project

Project/Area Number	02555181
Research Institution	Tohoku University
Principal Investigator	松田実東北大学, 反応化学研究所, 教授 (90006297)
Co-Investigator(Kenkyū-buntansha)	伊藤清樹チッソ株式会社, 横浜研究所, 研究員小野浩チッソ株式会社, 横浜研究所, 主席研究員東廣己チッソ株式会社, 横浜研究所, グループリーダー渡辺明東北大学, 反応化学研究所, 助手 (40182901)
Keywords	ポジ型レジスト / サブハ-フミクロン / ポリスルホン / 電子線レジスト / 耐酸素プラズマ性 / 含ケイ素ポリマ-
Research Abstract	1.目的線幅(line and space;L&S)が0.5ミクロン以下(サブハ-フミクロン)に微細化されたパタ-ンを有し、耐ドライエッチング性のポジ型(分解型)の電子線及びエキシマレ-ザ-用のレジスト高分子を設計、合成、評価し、実用化を目指す。 2.実験上記の目的を達成するために、p-トリメチルシリルスチレン(TMSS、市販品)及び合成したp-ペンタメチルジシリルスチレン(PMSS)と二酸化硫黄の交互共重合物を‐78℃で酸化還元蝕媒を用いて合成した。分子量は数十万から百万で、有機溶剤に可溶であった。 3.結果PMSSとSO_2の交互共重合物のガラス転移温度は188℃、また酸素プラズマ耐性を決定したが、2.5ナノメ-タ/分であリ、これは熱架橋型のノボラック樹脂のそれに比べて36倍も遅く、かつ、TMSSとSO_2の交互共重合物と比較してもより良い値であり、このことは、共重合物中のケイ素含量に由来している。PMSSとSO_2の交互共重合物について50KVの加速電圧の電子線照射を行いパタ-ニングを行った結果、適当な現像液を用い、かつ、現像温度、膜厚を制御することにより、実用的な感度で0.1ミクロンL&Sの超高解像度パタ-ンを得ることができた。これらのデ-タ-は、合成した交互共重合物は二層レジスト法において上層のレジスト高分子として十分に使用可能であることを示している。エキシマ-レ-ザ-露光の場合においても、電子線照射の場合と同じく照射部で分解反応が起こり現像液に可溶となりポジ像を与えた。感度は、150mJ/Cm^2、解像度は0.5ミクロンと実用的に満足できる値は得られなかった。これは、現像条件の最適化がまだなされていないということにもよるが、レ-ザ-発光波長における膜の光吸収が大きく、光が膜下部まで十分届かないためであると思われる。

Research Products

(4 results)

All Other

All Publications (4 results)

[Publications] A.S.Gozdz,小野浩,伊藤清樹,J.A.Shelburne III,松田実: "Evaluation of Poly(p-trimethylsilylstyrene and p-pentamethylsilylstyrene Sulfone)s as High-Resolution Electron-Beam Resists" Proceedings of Advances in Resist Technology and Proceedings. VIII. 200-205 (1991)
[Publications] 渡辺明,榊原太郎,伊藤清樹,小野浩,吉田陽一,田川精一,松田実: "Photo-Degradation and Electron Beam-Induced Degradation of Poly(Pentamethyldisilylstyrene Sulfone)s" Journal of Photopolymer Science and Technology. 4. 165-168 (1991)
[Publications] 渡辺明,榊原太郎,伊藤清樹,小野浩,吉田陽一,田川精一,松田実: "Photodegradation and Electron-Beam-Induced Degradation of Poly[(pentamethyldisilyl)styrene sulfone)]s" Macromolecules. 25. 692-697 (1992)
[Publications] 福村裕司,浜野浩司,増原宏, 伊藤広宣,榊原太郎,松田実: "Laser Ablation Dynamics of Silicon-and/or Sulfur-Containing Polymers Revealed by Time-Resolved Luminescence Spectroscopy" Physical Chemistry Letters.

1991 Fiscal Year Annual Research Report

サブハ-フミクロンのパタ-ニングが可能なポジ型レジスト高分子材料の開発

Principal Investigator

松田 実 東北大学, 反応化学研究所, 教授 (90006297)

Research Products

[Publications] A.S.Gozdz,小野 浩,伊藤 清樹,J.A.Shelburne III,松田 実: "Evaluation of Poly(p-trimethylsilylstyrene and p-pentamethylsilylstyrene Sulfone)s as High-Resolution Electron-Beam Resists" Proceedings of Advances in Resist Technology and Proceedings. VIII. 200-205 (1991)

[Publications] 渡辺 明,榊原 太郎,伊藤 清樹,小野 浩,吉田 陽一,田川 精一,松田 実: "Photo-Degradation and Electron Beam-Induced Degradation of Poly(Pentamethyldisilylstyrene Sulfone)s" Journal of Photopolymer Science and Technology. 4. 165-168 (1991)

[Publications] 渡辺 明,榊原 太郎,伊藤 清樹,小野 浩,吉田 陽一,田川 精一,松田 実: "Photodegradation and Electron-Beam-Induced Degradation of Poly[(pentamethyldisilyl)styrene sulfone)]s" Macromolecules. 25. 692-697 (1992)

[Publications] 福村 裕司,浜野 浩司,増原 宏, 伊藤 広宣,榊原 太郎,松田 実: "Laser Ablation Dynamics of Silicon-and/or Sulfur-Containing Polymers Revealed by Time-Resolved Luminescence Spectroscopy" Physical Chemistry Letters.

松田実東北大学, 反応化学研究所, 教授 (90006297)

[Publications] A.S.Gozdz,小野浩,伊藤清樹,J.A.Shelburne III,松田実: "Evaluation of Poly(p-trimethylsilylstyrene and p-pentamethylsilylstyrene Sulfone)s as High-Resolution Electron-Beam Resists" Proceedings of Advances in Resist Technology and Proceedings. VIII. 200-205 (1991)

[Publications] 渡辺明,榊原太郎,伊藤清樹,小野浩,吉田陽一,田川精一,松田実: "Photo-Degradation and Electron Beam-Induced Degradation of Poly(Pentamethyldisilylstyrene Sulfone)s" Journal of Photopolymer Science and Technology. 4. 165-168 (1991)

[Publications] 渡辺明,榊原太郎,伊藤清樹,小野浩,吉田陽一,田川精一,松田実: "Photodegradation and Electron-Beam-Induced Degradation of Poly[(pentamethyldisilyl)styrene sulfone)]s" Macromolecules. 25. 692-697 (1992)

[Publications] 福村裕司,浜野浩司,増原宏, 伊藤広宣,榊原太郎,松田実: "Laser Ablation Dynamics of Silicon-and/or Sulfur-Containing Polymers Revealed by Time-Resolved Luminescence Spectroscopy" Physical Chemistry Letters.