1990 Fiscal Year Annual Research Report
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02805007
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| Research Institution | Osaka University |
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Principal Investigator |
吉田 国雄 大阪大学レーザー核融合研究センター, 講師 (70029338)
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| Co-Investigator(Kenkyū-buntansha) |
田中 和夫 大阪大学, 工学部, 講師 (70171741)
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| Keywords | 石英基板 / 反射防止膜 / 化学処理 / イオン打込み / 屈折率勾配 |
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| Research Abstract |
石英ガラス基板に,Naイオン種を打ち込み,このイオン種を化学処理によって除去し,石英基板表面に屈折率勾配の層を作り,反射防止膜を製作する。平成2年度は,Naを含んだBKー7ガラスを化学的に処理し,BKー7ガラス表面に屈折率勾配を作ることができ,その層が反射防止膜となる事を確認した。次に,石英基板にNaイオン種を打ち込むテストを開始したが,現段階ではうまくいっていない。今後は,イオン種とイオンエネルギ-を変化させながら10^<15>〜10^<17>個/cm^2ののイオン打込みを行なう予定である。
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