反応性プラズマの制御(とりまとめ)

1991 Fiscal Year Annual Research Report

• Project/Area Number: 03299112
• Research Institution: Kyoto University
• Principal Investigator: 板谷 良平 京都大学, 工学部, 教授 (90025833)
• Co-Investigator(Kenkyū-buntansha): 広瀬 全孝 広島大学, 工学部, 教授 (10034406) ; 田頭 博昭 北海道大学, 工学部, 教授 (10001174) ; 籏野 嘉彦 東京工業大学, 理学部, 教授 (90016121) ; 後藤 俊夫 名古屋大学, 工学部, 教授 (50023255)
• Keywords: プラズマプロセシング / 反応性プラズマ / プラズマの制御

Research Abstract

本課題は昭和63年に開始し平成2年に終了した重点領域研究「反応性プラズマの制御」のとりまとめを行うもので、当領域の研究成果の評価と集約を行い、それらの社会への還元の促進を図るものである。
そこで本年度は平成3年6月に年度初頭の計画会議を開き、これまでの成果の点検と本年度の実行計画について調整、確認を行った。また、6月17ー19日名古屋で開催する反応性プラズマ国際セミナ-への発表と協力について計り、当重点領域研究の国際的評価を問うために招待講演の推薦を行った。つづいて研究成果をとりまとめた研究者向けの図書の執筆方針について討議した。
文部省で開かれる研究終了の領域に関する終了ヒアリングのための準備会を9月下旬に開き、報告書に盛り込むべき内容について相談した。
本重点領域研究の最終研究会を3月7日に京都で開催し、4年間に亘る研究成果の相互評価を確認すると共に、研究成果報告書作成について説明した。
当領域はプラズマ、放電、半導体、衝突物理、表面化学並びに物理化学の広い分野に亙る学際領域であり、異分野間の交流と協力の効果は極めて大きく、その成果を一口で表現すれば、これまで、ブラックボックスとしてしか把握されていなかった反応性プラズマが定量的に把握できるようになったと言うことである。

Research Products

• [Publications] 板谷 良平: "制御されたプロセス用プラズマとは" 電気学会雑誌. 110. 167-171 (1990)
• [Publications] 板谷 良平: "半導体プロセス用プラズマの特性と制御" 応用物理. 59. 912-916 (1990)
• [Publications] 板谷 良平: "プラズマプロセス課題と将来の展望" 核融合研究. 65. 489-507 (1991)
• [Publications] Ryohei Itatani: "Control of reactive plasmas:adventure to improve and to expand plasma processing" Pure and Applied Chemistry. 64. 697-702 (1992)