錯体触媒を用いるスルフィドの不斉酸化反応への経験的力場計算法の応用

1991 Fiscal Year Annual Research Report

• Project/Area Number: 03453051
• Research Institution: Okayama University
• Principal Investigator: 小島 正明 岡山大学, 理学部, 助教授 (20022725)
• Keywords: 錯体触媒 / 不斉酸化反応 / 力場計算 / 光学活性 / 不斉選択性

Research Abstract

力場計算法は経験的な方法であるから信頼性の高い計算結果を得るためにはパラメ-タ-を正しく設定しなければならない。そこで、本年度は力場計算の基礎となるデ-タ集積を主目的において実験・研究を行った。
1.錯体触媒の合成とスルフィドの不斉酸化反応。
種々のマンガン(III)ー、チタン(IV)ー、あるいはバナジウム(IV)ー光学活性シッフ塩基錯体を合成し、これらを触媒とするスルフィドの不斉酸化反応を行った。その結果、同じ配位子を用いても中心金属の種類により不斉収率に差がみられるだけではなく、生成するスルホキシドの絶対配置が逆転することがあることも明らかになった、また、酸化剤の種類も不斉選択性に大きな影響を与えることがわかった。チタン(IV)錯体触媒を用いた研究から、フェニル基の配向が不斉選択性に大きく影響することが示唆された。そこで、1分子中に4個のフェニル基を有するシッフ塩基配位子を合成し、そのチタン(IV)錯体の合成を試みた。残念ながらこの錯体は不安定なため単離することができなかったが、対応するマンガン(III)およびバナジウム(IV)錯体は単離することができた。今後、これら錯体を用いる不斉酸化反応を行う予定である。
2.錯体のX線構造解析。
マンガン(III)ー光学活性四座シッフ塩基錯体とバナジウム(V)ー光学活性三座シッフ塩基錯体のX線構造解析を行った。いずれの錯体も、各種機器分析結果および分子模型を用いた考察から予想した構造であることが明らかになった。

Research Products

• [Publications] Kiyohiko Nakajima: "Structures of Two Geometrical Isomers of Dioxo[(S)ーNーsalicylideneー(3)ーaminopyrrolidine]vanadium(V)" Bulletin of the Chemical Society of Japan.
• [Publications] Yasuharu Ohmori: "Stereochemistry of SixーCoordinated Silicon Complexes.2 Optica Resolution of [Si(αーdiimine)_3]^<4+>(αーdiimine=bpy,phen)" Inorganic Chemistry.