付加錯体生成を利用する金属キレートの高速液体クロマトグラフィー

1992 Fiscal Year Annual Research Report

• Project/Area Number: 03640486
• Research Institution: Faculty of Engineering, Gunma University
• Principal Investigator: 角田 欣一 群馬大学, 工学部, 助教授 (30175468)
• Co-Investigator(Kenkyū-buntansha): 川本 博 群馬大学, 工学部, 教授 (20008460) ; 赤岩 英夫 群馬大学, 工学部, 教授 (60008414)
• Keywords: 高速液体クロマトグラフィー / 金属キレート / 付加錯体 / 中性配位子

Research Abstract

昨年度、逆相HPLCにおける基本的な分離条件を確立した金属ーTTA(テノイルトリフルオロアセトン)系について、γーピコリン、ジピリジル(dpy)、1、10ーフェナントロリン(phen)の2座配位子、さらに酸素を直接の配位原子とするトリブチルホスフィンオキシド(TBP)、トリオクチルホスフィンオキシド(TOPO)など付加錯体形成剤の分離におよぼす影響を、移動層、カラムの種類など種々の因子を変化させ、詳細に検討した。付加錯体形成剤の効果は、昨年度までに検討した、金属ーSTTA(チオテノイルトリフルオロアセトン)系と基本的に一致した。たとえば、TOPOの添加により、いくつかの金属錯体の保持時間並びにピーク強度の増加が見られた。一方、金属ーTTA系のほうがSTTA系にくらべ、より錯体安定度が低いためと思われる種々の効果が見いだされた。すなわち、dpy、phenのマスキング効果は、STTA系に比べ、さらに顕著であった。また、γーピコリンは、STTA系においては、付加錯体生成効果を示したが、TTA系においては、マスキング効果を示した。以上のような金属ーSTTA、TTA系の逆相HPLCにおける分離挙動を、これらの金属錯体の溶媒抽出データにより理解することを試みた。その結果、付加錯体生成とマスキング効果は、それら錯体の安定度定数により、基本的には説明されることがわかった。しかしながら、同時に、配位子交換速度などの速度論的な性質も、HPLCにおける錯体の挙動に大きな影響を与えることが示唆された。

Research Products

• [Publications] T.Suzuki,K.Tsunoda,H.Kawamoto,H.Akaiwa: "Utilization of adduct Formation and Masking Effoct for Separation of some Metal 4-(2-thienyl)-4thioxo-1,1,1-trifluoro-2-butanonatos and 4,4,4,-trifworo-1-(2-thienyl)-1.3-butanedinates by Rerersed Phase HPLC" Bull.Chem.Soc.Jpn.