1991 Fiscal Year Annual Research Report
CVDによる酸化物高温超伝導体の薄膜および微粒子生成の制御
Project/Area Number |
03650774
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Research Institution | Hiroshima University |
Principal Investigator |
奥山 喜久夫 広島大学, 工学部, 教授 (00101197)
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Keywords | 酸化物高温超伝導体 / 薄膜 / 微粒子 / CVD / ビスマス系酸化物 / クラスタ- |
Research Abstract |
本研究では、BiーCaーSrーCuーO系の酸化物超伝導体の薄膜および微粒子が生成されるCVD反応器を製作し、反応器の温度、蒸気の濃度、およびキャリアガスの流量を様々に変えて行い、薄膜および微粒子の生成がどのように変化するかを種々の条件下で実験的に検討した。つぎに、凝集モデルにより粒子の生成を考慮した拡散方程式を熱エネルギ-方程式と達立して非等温場で数値計算し、実験結果と比較検討した。以上の実験および計算より次のようなことが明かとなった。 1.BiーCaーSrーCuーO系の高温の酸化物超伝導体の薄膜および微粒子の材料として、ハライド系およびβージケトン系の金属の錯体の粉末を蒸発用ボ-トに入れ加熱し蒸発させ、Bi:Ca:Sr:Cuの比が一定となる各蒸発温度が明かとなった。 2.反応温度を種々に変えて、発生した微粒子を反応器の出口で採取し、その結晶構造をX線回折で調べ、80K相の超伝導体が得られる反応温度が明かとされた。また薄膜についても同様な条件が明かとなった。 3.キャリアガスを変えた実験より、80K相の超伝導体が得られるガスの滞留時間があきらかとなった。また、微粒子の大きさはおよび膜の堆積状況は、凝集モデルによる粒子の生成を考慮した拡散方程式を、熱エネルギ-方程式と連立して、非等温場で数値計算され得られた計算結果で定性的ではあるが、良く説明された。
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Research Products
(6 results)
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[Publications] 奥山 喜久夫: "CVDによる薄膜および微粒子の生成の制御" ケミカルエンジニアリング. 51-55 (1991)
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[Publications] 奥山 喜久夫: "酸化物超伝導微粒子の製造と特性" 表面. 30. 268-276 (1991)
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[Publications] 奥山 喜久夫: "エアロゾル反応器によるMicro Controlled Particlesの製造" 粉体と工業. 23. 56-68 (1991)
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[Publications] 奥山 喜久夫: "噴霧熱分解法による高温超伝導粉末の特性制御" 粉体と工業. 23. 31-38 (1991)
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[Publications] 奥山 喜久夫: "噴霧熱分解法による酸化物超伝導微粒子の膜化" ケミカルエンジニアリング. 32-35 (1991)
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[Publications] 奥山 喜久夫: "噴霧熱分解法によるビスマス系酸化物超伝専粉の形態および結晶構造の制御" ケミカルエンジニアリング. 29-33 (1991)