1992 Fiscal Year Annual Research Report
シリコン表面の水素終端化とシリサイド形成過程の研究
Project/Area Number |
04452093
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Research Institution | Osaka University |
Principal Investigator |
上田 一之 大阪大学, 工学部, 助教授 (60029212)
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Co-Investigator(Kenkyū-buntansha) |
高井 義造 大阪大学, 工学部, 助教授 (30236179)
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Keywords | シリコン / 水素終端化 / シリサイド / 水素吸着 / エピタキシー / 水素検知 / 電子励起脱離 / TOF-ESD |
Research Abstract |
超LSIプロセスの中でシリコンと金属界面のシリサイド化の問題は微細加工処理にともなって重要な問題となっている。最近、ヘテロエピタキシーの分野でシリコン表面を水素終端化してスムーズな金属膜の成長が期待され研究が行われている。ところが試料の処理温度によっては水素の脱離のために急激にシリサイド化する可能性もある。本研究では水素終端化シリコン上のシリサイド形成のメカニズムを研究することを主たる目的とした。 本年度は本研究室で開発された電子励起イオン脱離(TOF-ESD)装置を用いて、 (1)基板として用いるシリコンへの水素吸着過程を詳細に研究し、(2)その結果をふまえて、先ずシリサイド形成をしないアルミニウムのヘテロエピタキシーを水素の吸着のある無しで比較し興味ある結果を得ている。(3)またシリコン上での金薄膜の成長過程をオージェ電子分光と電子回折で調べシリサイド化の様子を研究した。今後は水素吸着表面との比較を行う。(4)さらに、原子レベルの研究を推進するために低温領域で動作する走査トンネル顕微鏡と従来の表面研究装置、特に水素がその場観察可能な電子励起イオン脱離(TOF-ESD)装置との組み合わせを可能にした新しい分析装置の設計組立を行った。
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[Publications] K.Ueda,S.Kodama and A.Takano: "Studies of Hydrogen Adsorption on Silicon (100) Surfaces by Means of Time-of-Flight Type Electron-Stimulated-Desorption" Vacuum,. 43. 795-798. (1992)
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[Publications] K.Ueda,S.Kodama and A.Takano: "A Study of Hydrogen Adsorption on Silicon Surfaces by Means of Time-of-Flight Type Electron-Stimulated Desorption." Appl.Surface.Sci.;. 60/61. 178-182. (1992)
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[Publications] A.Takano and K.Ueda.: "On Kinetic Energy Distribution of Oxygen Ion Desorbed from a CO-Adsorbed Ni(110) by Time-of-Flight Type Electron-Stimulated-Desorption." Appl. Surface.Sci.60/61. 693-697. (1992)
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[Publications] K.Ueda,S.Kodama and A.Takano: "Desorption Study of Proton from H/Si(100) by Electron Stimulated Desorption Spectroscopy." Surface Sci.
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[Publications] K.Ueda,: "A study of dynamic process of hydrogen adsorptions on silicon surfaces." 11th Record of Allooy Semicon.and Elect. Sympo.,(Kyoto,July,1992)(Invited paper).141-146. (1992)
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[Publications] K.Ueda,: "Defect observation in silicon surface layers by surface wave resonance in RHEED." Material Sci.Forum.117/118. 273-278. (1993)
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[Publications] K.Ueda and A.Takano,: "Hydrogen termination study of silicon dang-ling bonds by electron stimulated desorption spectroscopy (TOF-ESD)" Surface Sci.
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[Publications] A.Takano and K.Ueda,: "Electron Stimulated Desorption of O^+ from CO Adsorbed Ni(110) Surface." Surface Sci.
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[Publications] A.Takano and K.Ueda,: "Energy distributions of oxygen ions desorbed from CO- and NO-covered nickel (110) surfaces." Surface Sci.
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[Publications] A.Takano and K.Ueda,: "Detection of hydrogen on nickel(110) surface by electron stimulated desorption." Jpn.J.Appl.Phys.
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[Publications] 上田 一之、児玉 真二、高野 暁巳: "電子励起脱離法による固体表面上の水素の高感度検知." 表面科学. 13. 339-343, (1992)
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[Publications] 上田 一之: "電子励起脱離法による固体表面の動的観察." 表面技術. 44-2,. (1993)