1992 Fiscal Year Annual Research Report
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04640491
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| Research Institution | Chiba University |
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Principal Investigator |
横山 正孝 千葉大学, 理学部, 教授 (00009052)
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| Co-Investigator(Kenkyū-buntansha) |
東郷 秀雄 千葉大学, 理学部, 助手 (60217461)
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| Keywords | C-ヌクレオシド / メソイオン型ヌクレオシド / ピラゾールヌクレオシド / テトラキストリメチルシリルシラン / 三配位ヨウ素化合物 / ラジカル反応 |
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| Research Abstract |
メソイオン型ヌクレオシドの合成として、リボシルヒドラジン及びデオキシリボシルヒドラジンと種々のケテンジチオアセタール誘導体からピラゾールヌクレオシド類及びメソイオン型ヌクレオシド類を、反応条件を変えることにより、合成可能であることを示した。
従来酸化剤として用いられている三配位ヨウ素化合物から、光及び熱を用いアルキルラジカルを発生させ、これを用いるC-ヌクレオシド類の合成方法の検討を行い、含窒素芳香族化合物を塩基部分に有するC-ヌクレオシド類を効率良く合成出来る方法を確立した。
更に、新しいラジカル試剤の開発は、ラジカル反応が速く、しかもクリーンである点から重要な問題である。従来知られているラジカル発生試剤として代表的なものは、AIBN、トリストリメチルシラン、水素化トリブチルスズがある。我々は新しいケイ素試剤として、テトラキス・トリメチルシリルシラン(TTMS)を用い、初めてラジカル発生試剤としての利用を試みた。その結果より、種々のアルキルハライドより、効果的にアルキルラジカルを発生させることが出来、C-ヌクレオシド類の初めての合成に成功した。
この結果より、ポリケイ素化合物のラジカル試剤としての利用が検討されている。現在は多配位セレン、テルル化合物の合成を試み、そのものの熱及び光及び反応条件下でのラジカル種の発生を検討しており、将来は、これらの有機反応への利用を目的としている。また、ラジカル反応は、ドラスチックな反応であるため、立体選択的付加反応の点で、大きな壁がある。この点を解決すべき新たなメソドロジーの開発が求めらている。
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[Publications] H.Togo,S.Ishigami,M.Yokoyama: "A Facile Preparative Method of C-Nucleosides" Chemistry Letters. 1673-1676 (1992)
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[Publications] H.Togo,M.Aoki,M.Yokoyama: "Facile Radical Decarboxylative Alkylation of Heteroaromatic Bases Using Carboxylic Acids and Trivalent Iodine Compounds" Tetrahedron Letters. 32. 6559-6562 (1991)
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[Publications] M.Yokoyama,K.Sujino,M.Irie,N.Yamzaki,T.Hiyama,N.Yamada,H.Togo: "Additional Reactions of Sugar oximes,Nitrile Oxides and Hydroximolactones" Journal of Chemical society,Parkin Trans,1. 2801-2809 (1991)
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[Publications] H.Togo,K.Hayashi,M.Yokoyama: "Tetrakis(trimethylsilyl)silane-Mediated Photo chemical Alkylation of Heteroaromatic Bases with Alkyl Halides" Chemistry Letters. 2063-2064 (1991)
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[Publications] H.Togo,M.Aoki,M.Yokoyama: "Alkylation of Aromatic Heterocycles with Oxalic Acid Monoalkyl Esters in the Preseuce Trivalent Iodine Compounds" Chemistry Letters. 1691-1694 (1991)
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[Publications] M.Yokoyama,T.Ikuma,S.Sugasawa,H.Togo: "Synthesis of Pyrazole Nucleosides Using Acylketene Dithioacetal Derivatives" Bulletin of the Chemical Society of Japan. 64. 2306-2308 (1991)
